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광학/전자영상장비 > 현미경 > 주사전자현미경

없음

1) Electron optics (1) High-stability Schottky Field Emission Type (2) Electron Beam Resolution - 0.6 nm at 15 – 2 kV or less - 0.7 nm at 1 kV or less - 1.0 nm at 500 V or less (3) Acceleration Voltage : 350 V to 30 kV or wider (4) Landing energies : 20 V to 30 kV or wider (5) Beam current : 0.8 pA – 100 nA or wider (6) Include Beam Deceleration Technology (7) Monochromator SEM technology is required to reduce the beam energy spread 2) Ion optics (1) Ion Source : Liquid Metal Ion Source (Gallium ion) (2) Resolution - 2.5 nm at 30 kV or less (3) Accelerating Voltage : 500 V to 30 kV or wider (4) Ion Beam Current : 1 pA - 65 nA or wider (5) Coincidence point (SEM-FIB): 4 mm (E-beam) or shorter (6) Gas Injection System (Include Pt, W and C Precursor) or more 3) Vacuum System (1) Oil free vacuum system (2) Chamber vacuum: <2.6×10-6 mbar (3) Evacuation time: <5 minutes 4) Specimen Stage (1) High-precision five-axis motorized stage with

Helios 5 UX with ToF-SIMS는 세계 최고 수준의 고분해능 DualBeam(FIB-SEM) 시스템에 고감도 화학 분석 기능인 ToF-SIMS가 결합된 초미세 복합 분석 장비입니다. Elstar 전자 컬럼과 Phoenix 이온 컬럼을 통한 나노 스케일의 구조 관찰 및 가공은 물론, ToF-SIMS 검출기를 통해 시료 표면의 원소 및 분자 정보를 ppm 단위의 감도로 분석할 수 있습니다. 특히 반도체 패키징 소재(ABF, Cu 등)의 계면 결함, 유기물 잔류 성분 및 미세 원소 분포를 3차원으로 시각화할 수 있는 최첨단 분석 장비입니다.