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주사전자현미경FESEM (Scanning Electron Microscope)
주사전자현미경FESEM (Scanning Electron Microscope)
전자총에서 발생시킨 전자빔을 집속시켜 시료에 주사하여 방출되는 전자를 검출함으로써 광학 현…
- Gun type : Cold Field Emission
- Accelerating V…
주사전자현미경HR FESEM 1호기 (Environmental Scanning Electron Microscope)
주사전자현미경HR FESEM 1호기 (Environmental Scanning Electron Microscope)
전자총에서 발생시킨 전자빔을 집속시켜 시료에 주사하여 방출되는 전자를 검출함으로써 광학 현…
구성및성능(1) Secondary electron image resolution - Hig…
원통도측정기 (Cylindricity Measuring M/C)
원통도측정기 (Cylindricity Measuring M/C)
원통형 제품이나 원형제품의 진원도, 원통도, 동심도 등의 정확한 측정 중요.측정원리 : 테…
Specification Rotation Unit Accuracy : 0.06㎛…
3차원레이저스캐너 (3D Laser Scaner)
3차원레이저스캐너 (3D Laser Scaner)
생산력 증대, 품질의 향상 및 새로운 제품의 개발 등을 지원할 수 있는 시스템 구축, 개발…
A-1. Laser Probe :(1)RPS - Rapid Profile Sensor1) …
3차원측정기 (Coordinate Measuring Machine)
3차원측정기 (Coordinate Measuring Machine)
제품제작 후 제품이 정확하게 만들어 제작되었는지 시험 중요.측정원리 : 측정기의 프로브로 …
- Specification
Measuring Range :1000mm×1200mm…
집속이온빔장치 (Focused Ion Beam System)
집속이온빔장치 (Focused Ion Beam System)
나노 단위의의 층이 적층된 구조의 시편에서 층의 두께 및 구조에 관한 신뢰성 있는 정보를 …
전압 : 200V~30 Kv 빔전류: 200 nA분해능 - 고-진공:1.2nm~3…
비접촉식노광기 (Laser Direct Imaging System)
비접촉식노광기 (Laser Direct Imaging System)
15um 급 미세회로구현을 위한 비접촉 정밀 노광 가능, 고부가 PCB 제품의 연구 및 시…
* Max substrate size : 558 x 660(mm)
* Minimum …
구면조도및형상측정기 (Surface Roughness & contour Measuring Instrument)
구면조도및형상측정기 (Surface Roughness & contour Measuring Instrument)
제품의 표면거칠기 및 형상측정
- 제품 가공 후 표면의 상태나 형상들의 정도 분석 중요 …
- Measuring Range
X axis : 100mm
Z axis : …
자동라미네이터 (Auto Laminator)
자동라미네이터 (Auto Laminator)
미세회로 / 마이크로비아 구현을 위한 감광제 접착, 고부가 PCB 제품의 연구 및 시제품 …
* 처리기판 SIZE Min. 250 x 250 mm …
정면기(D/F전처리기) (D/F Pretreatment M/C)
정면기(D/F전처리기) (D/F Pretreatment M/C)
CCL의 산화 제거 및 Dry Film 과의 밀착성 증대, PCB 미세회로 형성을 위한 전…
* 처리기판규격 Min. 250(L) x 250(W) mm Max.6…