보유장비현황
- 보유장비현황
- 금속 건식 식각 장비
- Metal Etcher
- i-Tube No. 2404-C-0131
- NTIS No
- 설치기관 포항공과대학교산학협력단
- 주소 경북 포항시 남구 효자동 산31 포항공과대학교
- 담당자 김수곤 (T.0542790227)
- 매뉴얼
-
예약가능여부(장비 예약은 Zeus 시스템에서 회원가입후 예약가능)
장비정보
-
제작사
(주)기가레인
-
모델 명
NeoGEN-MAXIS200H
내용연수40년
-
구분
주장비
용도시험
-
표준 분류
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
-
취득일
2024.04.16.
취득금액₩1,522,463,600
-
인증정보
없음
-
기능
반도체 제조공정에서 반응성 기체, 이온 등을 이용해 웨이퍼의 특정 부위를 선택적으로 제거하는 장비. 식각 깊이와 속도를 정밀하게 제어할 수 있어 미세한 패턴의 구현이 가능함.
-
장비 상세설명
8인치 SiC/GaN 기반 전력반도체 소자 금속배선 형성시 식각공정 대구경, 정교한 패턴이 요구되는 식각공정 적용 (Size 8inch, Uniformity <5%) 와이드밴드갭 전력반도체 소자의 저저항 오믹 접촉 형성을 위한 식각공정 적용
장비 사용법
-
사용형태
기관의뢰
설치형태고정형
-
사용료 형태
건별
장비 사용료[EA] ₩60,000
장비설명
반도체 제조공정에서 웨이퍼 상의 금속 부분을 식각하는 장비로,
- 8인치 SiC/GaN 기반 전력반도체 소자 금속배선 형성시 식각공정
- 대구경, 정교한 패턴이 요구되는 식각공정 적용
- 와이드밴드갭 전력반도체 소자의 저저항 오믹 접촉 형성을 위한 식각공정 적용
장비 구성 및 성능
1) 장비구성
- Process Chamber, Ashing Chamber
- Load lock, Transfer Module
- Pumping System, Gas System,
Temp Control System, Scrubber System
- Control Systems
- Size : 8 inch
2) Asher 사양
- RF generator : 400KHz, 8kW
- Chuck temperature : 250 °C
- Gas configuration : H2O, CF4, N2, O2
3) ICP etcher 사양
- Coil generator : 13.65MHz, 3kW
- Bias generator : 13.65MHz, 1.5kW
- Gas configuration : BCl3, Cl2, N2, CF4, HBr