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주입이온활성화 (High Temperature Furnace)
주입이온활성화 (High Temperature Furnace)
○ 8인치 일괄공정 지원을 위한 핵심공정인 이온주입공정 이후 도펀트 안정화의 필수 장비
…
1) 장비 구성
- Controller Configuration
- Heat , G…
금속 건식 식각 장비 (Metal Etcher)
금속 건식 식각 장비 (Metal Etcher)
반도체 제조공정에서 웨이퍼 상의 금속 부분을 식각하는 장비로,
- 8인치 SiC/Ga…
1) 장비구성
- Process Chamber, Ashing Chamber
- L…
고온 고에너지 이온주입장비 (High Temperature Ion Implantor)
고온 고에너지 이온주입장비 (High Temperature Ion Implantor)
○ 8인치 전력반도체 일괄제조공정 지원을 진행을 위한 필수 장비
- 전력반도체 소자의 …
1) 장비구성
- Source : Gas box, Source head, Extracti…
반도체 노광 장비 (KrF Scanner)
반도체 노광 장비 (KrF Scanner)
SiC 및 GaN 전력반도체 소자의 대전류 특성 구현하기 위한 nm-scale 미세 패터닝…
○ 장비 구성
- KrF excimer laser (248nm)
- Reduc…