한국세라텍
FU-PK-G2
10년
주장비
시험
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 퍼니스
2024.08.08.
₩15,000,000
없음
- 산소가스 최대유량 500 sccm 주입하면서 열처리 가능 <br/>- 열처리 온도 : 1200C <br/>- 반도체 소재 열처리 <br/>- 상/하 개폐가 가능하여 샘플 상태 확인가능 <br/>- 200mm x 3 Hot Zone <br/>
- 가스 분위기 사용에 용이한 장비 <br/>- 로 분위기 온도 1000℃ 이하 사용시 주로 사용되는 장비 <br/>- 상/하 개폐가 가능하여 샘플 투입상태를 확인가능한 장비 <br/>- 온도 균일도 우수함
기관의뢰
이동형
시간별
[Hr] ₩30,000
고온 열처리가 필요한 박막 단결정 물질을 질소 아르곤 가스 환경에서 열처리하는데 이용. 또는 Nanoparticle을 제조하는데 사용되기도 함. 단결정 샘플을 만들 때 사용된다. 1200 C˚ 까지 고온을 가할 수 있으며 온도 설정을 구간별 시간별로 줄 수 있어 단결정 샘플이 만들어지는 최적 조건을 찾아 성장 시킬 수 있다.
1. 일반규격
- 3개의 히팅존
- Hot Zone: 600mm length
- 최대온도 : 1200 ℃
- 온도 균일도 : ±1 ℃
- 히터 용량 : 4400 W
- HEATING ELEMENT 재질 : Kanthal A-1