Kratos Analytical
AES and HC package
11년
주장비
분석
화합물전처리/분석장비 > 분광분석장비 > 달리 분류되지 않는 분광분석장비
2025.04.02.
₩240,730,640
없음
- 초표면분석 : 분석 깊이 약 1~3 nm로, 거의 원자 한두 층 수준의 초박막 분석이 가능 - 고해상도 화학 조성 맵핑 : 수십 나노미터 수준의 공간 해상도로 조성 분석 가능 - 이미징 기능 : 표면의 구성 원소 분포를 시각화하여 2D 조성 맵 생성 가능 - 금속 및 무기물 분석에 특화 : 도체나 반도체 재료 표면 조성 분석에 적합
- 분석깊이 : 1~3 nm (XPS보다 더 얕은 깊이에서의 분석 가능 - 공간 해상도 : <10 nm 수준의 고해상도 이미징 가능 - 검출 원소 범위 : 원자번호 Z ≥ 3 (Li 이상 대부분 원소 감지 가능) - 정량 분석 능력 : 1 at.% 이하의 검출 한계 - 이미징 분석 : 2D 조성 맵 생성, 라인 스캔 및 포인트 분석
기관의뢰
고정형
시간별
[Hr] ₩120,000
AES는 오제 전자를 검출하여 표면 원소를 분석하는 방법 중 하나입니다.
AES를 기존 XPS 시스템으로 업그레이드하면 반도체, 디스플레이 소재, 산화, 부식, 촉매, 2차 전지, 표면 오염 등 다양한 분야의 연구에 활용 가능함.
1. 전계 방출 전자 소스 (전원공급부 포함)
(1) 10kV Schottky 전계방출전자소스, 차등펌핑
(2) 차폐 : mu-metal
(3) 시료스테이지의 틸트축에 수직으로 장착
(4) 빔직경 :100nm
(5) 통합 15 l/s-1 이온펌프 및 컨트롤러
(6) 안전 인터락
(7) 이차전자검출기
(8) SEM 공간 분해능 :
<200nm @ 10kV and 5nA sample current
(9) 오제 스펙트럼 감도 : >500,000 cps
(10) 소음에 대한 오제 스펙트럼 신호 : 500 : 1