반도체인프라센터

한국광기술원

보유장비현황

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장비정보

  • 제작사

    (주)티티엘

  • 모델 명

    FABStar-ICP etching system

    내용연수

    9년

  • 구분

    주장비

    용도

    생산

  • 표준 분류

    기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비

  • 취득일

    2025.10.15.

    취득금액

    ₩949,346,270

  • 인증정보

    없음

  • 기능

    히터유닛 [프로세스챔버#1_InP식각] - Top heater : 30℃~70℃ 컨트롤 - Wall heater : 30℃~70℃ 컨트롤 - Electrode heater : 30℃~200℃ 컨트롤 * He back side heating 장착으로 압력 및 유량 컨트롤 가능) [프로세스챔버#2_SiO2/SiNx식각] - Top heater : 30℃~70℃ 컨트롤 - Wall heater : 30℃~70℃ 컨트롤

  • 장비 상세설명

    펌프유닛에는 아래의 구성이 포함 - 프로세스챔버#1, #2는 터보펌프 + 드라이펌프 각각 구성 - 로드락챔버는 오일로터리펌프 또는 드라이펌프로 구성 ※ 터보펌프는 별도 컨트롤러 구성 및 드라이펌프는 키패드 장착 ○ 제너레이터유닛에는 아래의 구성 - Bias RF generator : 1000w이상. 13.56MHz - ICP RF generator : 3kw이상, 2MHz - Matching box : 디지털타입

장비 사용법

  • 사용형태

    직접사용

    설치형태

    고정형

  • 사용료 형태

    시간별

    장비 사용료

    [Hr] ₩150,000

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