반도체인프라센터

사례연도 2025

기업요구사항 LED 발광체 제작을 위한 GaN EPI Regrowth 기술지도 필요

지원내용 Micro LED 발광체 제작을 위한 2인치 웨이퍼 적층구조 EPI 성장 기술지도

주요성과 - 2인치 웨이퍼 적층구조의 EPI Regrowth를 통해 LED 발광체 제작
- 향후 한국광기술원과 협력하여 국가 R&D 과제 기획 및 참여할 계획

사례연도 2025

기업요구사항 고품위 EPI 박막 특성 확보 및 Chip 제작을 위한 기술지도 필요(특성 향상)

지원내용 AlGaInP Red-uLED 제작을 위한 기술지원

주요성과 - MicroLED와 VCSEL의 광특성 향상을 위한 기술지원으로 시제품 제작
- 고효율, 고출력의 칩 특성 확보를 위한 기술 지원으로 수율 향상

사례연도 2025

기업요구사항 광학 부품의 결점 분석을 위한 주사전자현미경 분석 필요

지원내용 광학부품의 결점 분석을 위한 기술지도

주요성과 - 주사전자현미경 분석을 통한 결점 크기 및 모양 관찰
- 품질 관리를 통한 신뢰성 향상

사례연도 2025

기업요구사항 InGaN/GaN의 전기적 특성 분석 지원 필요

지원내용 GaN 전기적 특성 분석을 위한 기술지도

주요성과 - 전기적 특성 분석을 통한 공정 품질 관리 및 신뢰성 확보
- 대구경 균일도 확인 및 InGaN/GaN웨이퍼 개발 기술력 확보

사례연도 2024

기업요구사항 EML DEFECT 관련 제거후 에피 성장을 위한 기술지도 필요

지원내용 EML diode에 사용되는 active layer을 위한 기술지도

주요성과 - 패턴에 따른 regrowth 성장 후 표면균일도 확보
- Lateral growth 성장 조건에 따른 복잡한 구조의 regrowth 조건 확보

사례연도 2025

기업요구사항 실리콘 그래핀 설비 조건 확보 및 품질 확인 필요

지원내용 2차전지 음극소재용 실리콘 그래핀 설비 품질 확인을 위한 기술지도

주요성과 - 고분해능 회절분석기를 이용한 결정성 분석 지원
- AlN웨이퍼 공정 조건 확보 및 품질 관리

사례연도 2024

기업요구사항 EML chip에 적용되는 전극패드 제작 기술지도 필요

지원내용 트랜시버 모듈의 EML chip 제작관련

주요성과 - EML chip 제작 관련 레이저 발진 효율 개선

사례연도 2024

기업요구사항 고품위 에피 성장을 위한 기술지도 필요

지원내용 고품위 EPI 성장을 위한 기술지도

주요성과 - 재현성 확보를 통한 최적화 구조의 성장조건 확보
- 최적화 조건에 따른 에피소자의 발광특성 신뢰성 확보

사례연도 2024

기업요구사항 MEMS Mirror 개발을 위한 굴절률 안정화 및 손실개선 광소자 제작 기술 개발 필요

지원내용 광소자 부품 개발용 MEMS Mirror 제품 공정지원 기술지도

주요성과 - MEMS 스캐너 제품에 사용되는 소자의 낮은 삽입손실 및 낮은 훕아반사손실을 갖는 소자 제작 기술 확보

사례연도 2024

기업요구사항 MEMS chip에 적용되는 소자정밀 패턴 제작 기술지도 필요

지원내용 수소감지센서의 MENS 기반 chip 제작관련 기술지도

주요성과 - 수소가스센서 부품 제작 관련 MEMS chip 수율 개선