지능형광학모듈연구센터

RF ion-beam source, RF power supply, matching box, Neutralizer system, controller 로 구성됨
- 금속 박막의 밀도 향상을 위해 이온에너지밀도 조절 및 이온 에너지 방향성 향상이 가능한 RF 중화형 이온 소스 시스템
1) RF ion source 유지보수의 용이성 ① Source 내부의 플라즈마 챔버의 오염을 최소화하는 구조로 장시간(600시간 이상) 오버홀 없이 연속사용 ② Self-decontamination mode를 사용하여 플라즈마 챔버의 오염에 대한 관리가 편리함
2) RF ion source ① 이온총의 적당한 에너지와 전류밀도 - 증착되고 있는 박막에 이온에너지 충격을 줌으로 박막기둥을 깨트리는 효과로 박막의 조밀도를 향상 시켜 내구성이 강한 코팅 박막 제작 가능 ② 증착 전 이온총으로 기판 세척 가능 - 기판의 잔류 오염 물질을 제거하여 박막과 기판의 밀착력 향상
3) 출력 이온빔 에너지 : ∼2,000 eV(MAX) 이온빔 사이즈 : ？ 60 mm
4) RF 중화장치(neutralizer) ① 이온빔의 행로에 전자를 공급함으로써 이온빔의 직진성을 향상시키며, 박막의 이온 charge arc를 중화시킴 ② Filament, hallow cathode type의 neutralizer 보다 오버홀 없이 장시간 연속사용이 가능
- 이온빔에너지 밀도 및 방향성 조절이 가능한 RF-중화형 이온소스 시스템
- 이온에너지를 사용한 기판세척으로 금속기판의 표면개질 향상
- 금형 표면의 치수변동 없이, 전이금속박막에 조사된 높은 이온입사에너지에 의해 표면의 미세구조 변동으로 조밀도가 향상되어 금속박막의 밀착 및 내구성 향상