미래전략본부

본 장비는 플라즈마를 이용하여 SiO2, SiNx 물질을 식각하는 장비로서 다음과 같은 항목이 가능해야 한다.
1) 챔버구성은 로드락챔버, 메인챔버로 구성
2) 트랜스퍼 모듈 및 공정진행 매뉴얼 및 자동 제어
- 자동제어범위 : 로드락에 트레이를 장착후 동작버튼을 누르면 펌핑,
로딩, 레시피작동, 언로딩이 가능해야 함
3) 진공펌프(로드락챔버는 터보펌프 + 스크롤펌프, 메인챔버는 터보펌프 +오일로터리펌프) 및 Throttle밸브를 이용한 진공도 제어
4) RF제너레이터와 매칭박스 탑재
5) 플라즈마방법을 이용한 SiO2, SiNx 식각
6) 공정가스 (SF6, Ar, CH4, CF4, N2)유량 제어