나노융합센터

1. 집속이온빔 구성
ㅇ 분해능: ≤2.5 nm (@ 30kV)
ㅇ 가속전압: 0.5 kV ~ 30 kV
ㅇ 집속이온빔 소스: Ga Liquid Metal Ion Source(LMIS)
ㅇ 배율: 150x ~ 1,000,000x
ㅇ 프로브커런트: 1 pA ~ 100 nA
ㅇ 진공 시스템(집속이온빔 컬럼 진공: < 5×10-6 Pa)
ㅇ GIS deposition(Gas Injection System): Pt(precursor)
2. 주사전자빔 구성
ㅇ 전자총: High brightness Schottky emitter
ㅇ 전계방사형 주사전자현미경 분해능 : 0.9 nm (@ 15kV)
ㅇ 배율: 1x ~ 2,000,000x
ㅇ 가속전압: 200 eV ~ 30 keV
ㅇ 프로브커런트: ≥1 pA ~ ≤400 nA
ㅇ 진공 시스템(전자총 컬럼 진공: < 3×10-7 Pa)
ㅇ 스테이지
- X: 130mm, Y: 130mm, Z: 90mm
- Rotation: 360°, Tilt: -30° ~ 90°
3. 부대설비 구성
ㅇ 에너지 분산형 X선 분광기(EDS)
  - Bruker Energy Dispersive X-ray Spectrometer QUANTAX 200
- 액티브 영역: 60mm2
- 해상도: < 129eV
ㅇ 스퍼터 코터(Sputter Coater)
  - Q150T S High Resolution Sputter Coater