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보유장비현황

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장비정보

  • 제작사

    주식회사 세미안

  • 모델 명

    SMC-15S-HV

    내용연수

    13년

  • 구분

    옵션/액세서리(보조장치)

    용도

    분석

  • 표준 분류

    기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터 (주장비: EPN0237765)

  • 취득일

    2025.12.08.

    취득금액

    ₩29,000,000

  • 인증정보

    없음

  • 기능

    고진공 환경에서의 박막 스퍼터 코팅 - 코팅 시 필름 두께 모니터링 및 정밀 제어 - 고품질 얇은 필름을 위한 연속 플라즈마 처리 - 샘플 높이, 회전 및 코팅 전류 조절 가능

  • 장비 상세설명

    전자현미경 관찰이 가능하도록 하기 위해 이러한 부도체 특성 시료의 전처리(전도성 물질의 표면코팅)를 통해 대전현상을 방지하는 장치 ○ High-Vacuum Chamber - 작업 챔버: 150mm(직경) x 160mm(높이) 내외, 고진공 챔버 - 작업 가능 진공 범위: 0.5 ~ 0.005mbar - 도달 진공도: 5 x 10^–5mbar ○ Sputter Gun - 마그네트론 방식 - 타겟 사이즈(target size): 원형 타겟(50-57mm), 링 타겟(OD 40mm x ID 19mm) - Film Thickness Monitor(FTM): 측정: 0.1nm, Frequency: 6MHz ○ Substrate Stage - Stage 동작: 3축 Auto Motion Stage(코팅 중, 이동가능) · 회전(Rotation): 중앙 회전(Center Rotating), 기울기 회전(Tilted Rotating, 30°) · 자동 모터 작업 간격: 35 ~ 80mm(가변) · 회전 속도: 5 ~ 30 RPM(가변) ○ DC Power Supply - DC 동작전압: 250 ~ 600V - 모니터(Display): LCD 8“ Capacitive Touch - 자동 전원 OFF 기능: Evacuation 후, 자동 꺼짐 - 이온화 전류: 150mA Max. ○ Vacuum Pumping System - 펌프 시스템: Rotary Pump + Turbo Pump

장비 사용법

  • 사용형태

    기관의뢰

    설치형태

    고정형

  • 사용료 형태

    건별

    장비 사용료

    [EA] ₩5,000

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