(주)케이엔피솔루션
없음
10년
부대장비(부가장치)
생산
화합물전처리/분석장비 > 혼합/분쇄/반응장비 > 달리 분류되지 않는 반응/혼합/분쇄장비 (주장비: EPN0183125)
2025.12.26.
₩89,650,000
없음
“○ 장비 사양 1. DC Power Supply 1) 본 장비는 Thermal Plasma Torch에 DC 전원을 공급함. 2) 전체 90kW로 30kW 3개로 구성.(200V, 150A) 2. Gas supply unit : MFC 1) 플라즈마 공정가스는 N2 가스를 이용, 방전 가스 3개, quenching 가스 4개, carrier 가스 1개로 구분. 2) MFC에 의해 원하는 양을 조절하여 정량 공급. 3. 원료공급시스템 1) 20 ~ 2,000g/hr 범위에서 일정한 원료 공급 가능. 2) Volume metrics type으로 로터에 일정한 간격으로 기계적으로 가공된 Volume에 원료가 투입, 회전되는 로터에 의해 일정량이 플라즈마 전극 상부로 공급.“
○ 장비 개요 1. 원료공급시스템(고도화)는 RF고온플라즈마 탄소나노복합소재 제조장치를 고도화하는 장비로써 설치되며, RF 고온플라즈마 전극 위치에 설치 가능한 DC 고온플라즈마 전극과 RF전극 및 DC전극 모두에 적용 가능한 정량 원료공급시스템을 포함함. 2. RF전극 및 DC전극은 고온 플라즈마 발생 전극의 종류에 따른 플라즈마 온도, 밀도, 이온종의 차이에 따라 합성되는 탄소소재 및 나노소재의 물성의 차이를 확인하여 최적의 공정 및 공정 재현성 확보가 가능함.“
기관의뢰
이동형
건별
[EA] ₩235,000
○ 장비 개요
1. 원료공급시스템(고도화)는 RF고온플라즈마 탄소나노복합소재 제조장치를 고도화하는 장비로써 설치되며, RF 고온플라즈마 전극 위치에 설치 가능한 DC 고온플라즈마 전극과 RF전극 및 DC전극 모두에 적용 가능한 정량 원료공급시스템을 포함함.
2. RF전극 및 DC전극은 고온 플라즈마 발생 전극의 종류에 따른 플라즈마 온도, 밀도, 이온종의 차이에 따라 합성되는 탄소소재 및 나노소재의 물성의 차이를 확인하여 최적의 공정 및 공정 재현성 확보가 가능함.
“○ 장비 사양
1. DC Power Supply
1) 본 장비는 Thermal Plasma Torch에 DC 전원을 공급함.
2) 전체 90kW로 30kW 3개로 구성.(200V, 150A)
2. Gas supply unit : MFC
1) 플라즈마 공정가스는 N2 가스를 이용, 방전 가스 3개, quenching 가스 4개, carrier 가스 1개로 구분.
2) MFC에 의해 원하는 양을 조절하여 정량 공급.
3. 원료공급시스템
1) 20 ~ 2,000g/hr 범위에서 일정한 원료 공급 가능.
2) Volume metrics type으로 로터에 일정한 간격으로 기계적으로 가공된 Volume에 원료가 투입, 회전되는 로터에 의해 일정량이 플라즈마 전극 상부로 공급.“