보유장비현황
- 보유장비현황
- 롤투롤 CVD용 가스공급 시스템
- Gas Supply System for R2R CVD
- i-Tube No. 2005-C-0128
- NTIS No NFEC-2020-06-263064
- 설치기관 한국화학연구원
- 주소 대전시 유성구 장동 100
- 담당자 조태연 (T.042-860-7916)
- 매뉴얼
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예약가능여부(장비 예약은 Zeus 시스템에서 회원가입후 예약가능)
장비정보
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제작사
MB System co.Ltd
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모델 명
RollCoat500-GLS_NH3
내용연수5년
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구분
부대장비(부가장치)
용도시험
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표준 분류
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 가스공급장치 (주장비: MPN0000798)
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취득일
2020.05.27.
취득금액₩116,633,000
- 인증정보
- 기능
- 장비 상세설명
장비 사용법
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사용형태
기관의뢰
설치형태고정형
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사용료 형태
일별
장비 사용료₩4,000,000
장비설명
○ 원리
- 플라즈마 화학증착 공정 (PECVD)은 진공 환경하에 특정한 파워소스에 의해 플라즈마를 발생시켜 반응시키고자 하는 가스를 주입하여 화학반응을 일으켜 기재위에 물질을 코팅하는 장치임
- 가스캐비닛은 독성가스의 안전한 보관뿐만 아니라 누출 발생 시 공급을 긴급 차단시켜 화재, 폭발과 같은 상황에 1차적으로 차단하는 역할을 함
- 정밀유량제어 장치는 가스의 유량을 정밀하게 조절하여 CVD 반응챔버로 공급해주는 역할을 함
- 마이크로웨이브 파워 소스와 마그네트론 유닛은 CVD 공정에서 플라즈마를 발생시키는 핵심 부품장치로서 일반적으로 2.45GHz 의 주파수를 갖는 전압를 사용하여 플라즈마 가열에 효과적이며 이로인해 가스의 해리가 활발하게 이루어져 많은 활성종을 생성함
○ 특징
- 가스캐비닛을 기존에 설치되어 있는 배기장치와 연결하여 항상 음압을 유지하여 비상 시 누출된 가스가 실내로 유입되는 것을 원천 차단함, 또한 무정전전원장치와 연결하여 정전 시 대응 가능함
- 마이크로웨이브 파워를 이용한 PECVD 장치로서 낮은 이온에너지를 가지고 고밀도 플라즈마를 생성시킬 수 있어 저온에서도 우수한 품질의 박막을 코팅함
장비 구성 및 성능
○ 가스보관 및 공급장치
- 가스캐비닛: Full Auto Type(Material SS42 2.3t), 자동퍼지-공급-중지-리셋 기능, 긴급상황 자동 정지 및 경보 알람 작동, Leak 감지 (He), N2 Vent-purging, 철심 강화 유리, Sprinkler (72℃ 이상 작동), UV sensor(화재감지), Auto valve shutter, PLC controller (touch screen)
- 정밀유량제어장치: 정밀도 (0.2%, Full scale), Profibus 통신Type, 유량 제어 범위 (2.0 ~ 100%, Full scale), 컨트롤 세팅 시간 ( < 0.8 초), Maximum Inlet 압력(150 psig), Resolution (0.1%, Full scale), Repeatability (±0.2%, Full scale), Warm up time (15 minutes)
○ 플라즈마 소스
- 마이크로웨이브 파워소스: 메인파워 (230V AC), 주파수 (50~60Hz), Main tolerance (±10%), Microwave data (MW capacity 2*3kW/4.5kW, Frequence 2*2.45GHz), Cooling Water ( 4l/min, 4bar, 20~25℃)
- 마그네트론 유닛: Linear plasma (500mm width 이상), 전압 (400V AC), 주파수 (50~60Hz), 전류 (500mA), 용량 (350VA), Main tolerance (±10%), Microwave (-5, 100V DC, 2450 MHz, 3kW/4.5kW), Cooling Water ( 4l/min, 4bar, 20~25℃)