Ulvac
PHI 5000 Versaprobe
4년
주장비
분석
광학·전자 영상장비 > 방사선발생/측정장비 > X-선발생기
2011.02.16.
₩1,038,713,750
기관의뢰
고정형
시간별
₩10
표면 원소에 대한 정성/정량 분석
Beam resolution: less 10 um to 200 um
표면두께별 정성/정량 분석
시편 표면의 화학적 결합 상태 및 원소 분석
Depth resolution: 1 to 10 nm
X-ray source : X-ray Monochromatro (Al Ka)
Beam size: 10 to 100 um
Depth resolution : 1 to 10 nm
기본압력 : 1.1 * 10-7 Pa
* 2017년 1월 2일 ~ 2월 28일 산업기술개발장비 성능향상사업 수행
-Al single anode -> Al/Mg dual anode 업그레이드 완료
-장비업그레이드 전후 사진 동일(기타정보 사진첨부)