(주)에스엠텍
SM-LMM-9100
5년
주장비
시험
광학·전자 영상장비 > 달리 분류되지 않는 광학·전자 영상장비
2014.12.31.
₩677,109,090
기관의뢰
고정형
시간별
₩78,000
1) 3파장 펨토초 펄스 레이저를 이용하여 플라스틱, 금속류, 유리, 실리콘 웨이퍼 등의 재질에 비열 미세 가공 및 미세 패턴 등의 초정밀가공이 가능한 시스템
2) 일반적인 열용융 방식의 레이저 가공이 아닌 펄스폭이 작은 펨토(10-15)초 레이저를 사용함으로써 non-thermal 방식의 정밀한 형상 가공 및 미세 절단에 활용
3) 펨토초 펄스(190fs) 3파장(1030/515/343nm) 레이저에 대한 광학계, 정밀가공용 스테이지 시스템, 고속 가공용 스캐너로 구성되어 펨토초 3파장 소스에 대한 정밀가공과 고속가공이 가능
4) 유리, 세라믹 등 취성․난가공 재료의 가공 시 재료 무의존 특성을 지니며 고품질의 정밀가공을 수행할 수 있으므로 반도체, 디스플레이, 광통신부품 및 IT 전자산업 전반에 걸친 기업지원 수행
1.구성
1) 3-λ femtosecond pulsed laser
(1) 3파장 펨토초 펄스 레이저 시스템
2) 레이저 빔 전달 광학계
(1) Beam Expander
(2) Femtosecond laser용 mirror 및 mount류
(3) Femtosecond laser용 broadband mirror 및 mount류
(4) Dual wave laser harmonic separator
3) 관찰 및 가공 보조 광학계
(1) Microscope Unit
(2) Narrow bandpass Filter
(3) Combiner
(4) Objective lens
4) 레이저 스캐너
(1) 1030nm & 515nm laser scanner & telecentric f-theta lens
(2) 343nm laser scanner & telecentric f-theta lens
5) 초정밀 에어베어링 스테이지
(1) X-axis(lower) 및 Y-axis(upper) stages
(2) Theta-axis stage
(3) Z-axis stage
(4) Working table
(5) 석정반 및 bridge
2.성능
- Single-unit integrated 펨토초 레이저시스템 형태로 구성
- 3파장 wavelength : 1030, 515, 343nm
- Max. power : 6W(@1030nm), 3W(@515nm), 1.8W(@343nm)
- Repetition rate : Single pulse ~ 600KHz
- Beam diameter : Typical 2mm
- Spatial mode : TEM00
- M2 : 1.3 이하(@1030nm)
- Pulse duration : 190fs ~ 10ps
- Polarization : Linear, horizontal
- Stability : ±0.5%(rms) over 24 hours
- Hermetically sealed harmonic generator
: Automated harmonic selection, Conversion efficiency SH >50%, TH >25%
- Including power supply rack and chiller