지니아텍
Eclipse Ti-E
12년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 이온주입장치
2014.02.17.
₩172,276,680
기관의뢰
고정형
시간별
₩30,000
- 저압상채에서 가스주입, 반응 에너지로 플라즈마 및 히터를 이용
- 플라즈마는 RF Generator라고 하는 교류 전원 공급장치에 의해 형성
- 플라즈마에서 높은 에너지를 얻은 전자가 중성상태의 가스 분자와 충돌하여 이들을 분해하고 이들 분해된 가스간의 반응이 일어남
1. 공정 챔버
- 챔버 재질 : Anodized aluminum
- 기판 이송/반송 방식 : 로드락 챔버를 이용한 자동 이송/반송 방식
- 챔버 포트 : View 포트 (셔터 포함), 게이지 포트, 가스 주입 포트, 기판 이송/반송 포트(사각형타입)