ZEISS
Xradia 510 Versa
10년
주장비
분석
광학·전자 영상장비 > 방사선발생/측정장비 > X-선발생기
2020.06.24.
₩1,152,410,000
기관의뢰
고정형
시간별
₩150,000
고성능 3D X-ray 표면분석기는 고해상도의 삼차원 이미지를 제공하는 비파괴 표면 분석기로 시료에 인장(Tension) 혹은 압축(Compression) 등의 응력(Stress)을 인가하여 내부 변형을 실시간 관찰할 수 있는 장치로 구성 되어 있음
○ Spatial Resolution 700nm 이하의 고해상도
○ In-situ 실험 장치: Tension과 Compression 500N 이상
- Detail visibility: 150nm 이하 또는 Minimum Achievable Voxel: 70 nm 이하
- X-ray 검출기: 2,880 X 2,880 pixel flat-panel 1개 이상 또는 04.배, 4배, 20배, 40배 대물렌즈가 장착된 2k X 2k pixel noise suppressed CCD(Charge-Coupled Device) 4개 이상
- Bit depth: 16 bits 이상
- X-ray source:
Open type의 경우는 반사 튜브 Voltage 225kV이상, 320W 이상, 투과 튜브 190kV이상, 80W이상
Sealed type의 경우는 투과 튜브 160kV 이상, 10W 이상
- Radiation Safety: 1 μSv/hr 이하(measured 25 mm above surface of enclosure)
- X-ray 필터 수: 12개 이상
- Sample stage, Load Capacity: 25 kg 이상
- Sample stage Travel, X, Y, Z: 50 mm, 100 mm, 50 mm 이상
- Sample stage Travel, Rotation: 360°
- In-situ system: Tension과 Compression 500N 이상