- 용액 탱크(현상, 에칭, 박리액)
- Reactor(Developer(패턴형성), Etcher(표면 식각), Stripper(패턴 형성 후 불순물 제거))
- Valve & Tube & Pump
- 표면 패턴 형성, 식각 및 반응을 위해 각 알칼리 및 산계열 용액을 정량 펌프를 통해 표면 분사 시키는 구조의 연속 반응기
- 금속표면 또는 투명전극 표면에 산 또는 염기성을 스프레이 분사하여 표면에 살짝 텍스쳐링 처리하여 거칠기를 향상시킴으로써 반사방지 효과를 얻을 수 있고, 이때 빛의 이용을 극대화 하여 CIGS의 효율을 향상시킬 수 있음
- CIGS, TCO, Mo전극 표면 텍스처링에 사용
- 표면 텍스처링 중 일정 패턴을 적용함으로써 반사방지 효과를 극대화할 수 있을 것으로 판단됨
- 패턴화 및 표면처리를 위한 wet 공정 장비가 필요함 - 서브모듈 1장당 예상 처리 시간 : 1시간 이상