반도체 공정에 사용되는 Quartz part는 다양한 조건의 플라즈마 또는 부식성 가스(CF4, NF3, CHF3 등)에 노출되어 표면 열화가 발생함. Quartz part의 장기 사용을 위해 내플라즈마성 확보가 필요하며 이를 위해 RF 플라즈마 조건 및 부식성 가스 종류 등에 따른 표면 열화에 대한 고장분석 및 가속시험을 통한 수명 평가가 가능한 장치임.
1. Chamber Φ300x250H 2. Substrate 4in. 3. Plasma gas; Ar, O2, CHF3, CF4, NF3 4. RF power 600W, 13.56MHz 5. Working pressure 10E-2 torr
- 고장분석을 위한 RF plasma 조건에 따른 Quartz part 표면의 열화 유도
- 가속성이 유지되는 plasma 조건내에서 가속시험 수행