ULVAC-PHI
PHI X-tool
주장비
분석
화합물 전처리·분석장비 > 분광분석장비 > 달리 분류되지 않는 분광분석장비
2013-06-27
507,972,514원
원
가스처리용 나노/하이브리드 박막 화학 결합 상태를 파악하고 X선을 이용하여 표면의 원소를 여기시켜서 3차원 박막 성분 및 화학 결합을 측정하는 장비로 고가 시료의 박막을 비파과모드로 분석 할 수 있음.
○ 표면 분석 범위 : 20㎛-1.4㎜
○ 표면방향 분석한계 : 20㎛
○ 두께방향 분석한계 : 1㎚
○ X선을 이용하여 재료 표면의 원소를 여기 시킴
○ 시료의 3차원 박막 성분 및 화학 결합 측정
○ 가스 분리막 사용 전과 후의 3차원 성분 정밀 분석
○ 가스처리용 나노하이브리드 박막 화학 결합 상태 파악 및 성분 분석
○ 금속 및 무기재료 코팅막 성분 분석
○ 고분자 필름 및 플라스틱의 오염 물질 분석
- Depth profile : 1nm~수 ㎛
- Minimum X-ray beam size: ≤20㎛
- System Vacuum: ≤6.7x10-7 Pa
- Ar Sputter gun max beam current: ≥5.0μA at 5 KV
- Sensitivity: >100ppm, >0.01%