재성엔지니어링
UVO-400S
3년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2013-02-27
40,000,000원
기관의뢰
고정형
시간별
48,000원
짧은 파장의 자외선(185 nm 및 254 nm)을 이용하여 기판표면의 표면에너지를 조절하여 잉크인쇄 및 박막코팅을 위한 조건형성에 활용하는 한편 자외선을 이용하여 유기오염물질을 제거하는 장치.
1. UV lamp:
- Material: Low pressure Mercury Vapor Grid Lamp
- 파장: 184.9 nm/ 253.7 nm
- Intensity: 28mw/㎠ (254nm) --- from 6mm Dist
- Uniformity: ± 10%
- 램프외장: Suprasil Quartz
2. 챔버:
- Tray size: 24인치 × 16인치 (609.6 × 406.4mm)
- 소재: SUS
- 사용가능 기판두께: 0.4-1.1 mm
- 유리기판 및 실리콘 wafer 등의 표면오염물질(유기물)제거
- 자외선을 조사함으로 써 기판의 표면에너지를 높여 잉크류의 코팅특성개선
- 잉크 및 페이스트 인쇄 후의 잔류 유기물 제거에 활용
짧은 파장의 자외선(185 nm 및 254 nm)을 이용하여 기판표면의 표면에너지를 조절하여 잉크인쇄 및 박막코팅을 위한 조건형성에 활용하는 한편 자외선을 이용하여 유기오염물질을 제거하는 장치.