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RTCVD
주장비
분석
화합물 전처리·분석장비 > 달리 분류되지 않는 화합물 전처리 분석장비 >
2013-02-04
51,000,000원
원
화학적 합성 증착 장비로서 각종 혼합가스의 비율을 조정하여 챔버내에 분위기를 만든 후 고온에서 가스의 합성시켜
기판위에 원하고자 하는 조성의 물질을 증착시키는 장비이다.
본 진공로(RTCVD)는 CNT 및 Graphene 합성은 물론이고, 다이어프램 진공열처리에 사용할 수 있도록 설계 됨.
쿼즈 6 인치 튜브형태의 챔버 (히팅 존은 0.5 미터), 할로겐 히터 35W 20 개,
Chamber, 진공부, 전력부(150A), 진공 및 밸브 컨트롤러 구성
진공도 10 -4 토르, 혼합가스 최대 5개 유량컨트롤
1000도씨 승온 속도 : 5분이내, 상온까지 하강 시간 10
카본 증착
1. 니켈 웨이퍼 또는 호일을 준비
2. 챔버에 샘플을 로딩한 후 진공을 뽑는다.
3. 10-4 토르의 진공도
4. 수소를 50 sccm 고온으로 승온(950도)
5. 950 도 도달과 함께 아세틸렌 가스 5 sccm
6. 두께에 따라 합성 시간 컨트롤
7. 합성 완료후 챔버 내화벽을 오픈하여 로냉