장비명 : E-beam system

용도 : 전자빔을 이용하여 고융점 금속을 증발시켜 태양전지용 금속전극을 형성시키는 장비
여러 금속 물질을 E-Beam source와 Thermal source를 이용하여 선택적 사용이 용이
System 구성 : Process Chamber
E-Beam Gun & Power Supply : 15cc, 4pocket, 6kW, source 270 Deflection
Thermal Source & Power Supply : 3kW(10V, 300A,1set), Thermal W boat
Substrate 사이즈 : 100mm 100mm
System Contol : PLC Based Touch Panel Control l(Manual Type Control)
Vacuum Unit : Rotalry Pump, Turbo Molecular Pump
Rotation Unit : AC Motor
Thickness Monitor : Inficon, SQM 160
Thickness Uniformity : ≤±5%@ 3,000Å
태양전지의 전극을 형성하는 장비로 사용됨
4 porket을 이용하여 여러 물질의 전극을 증착 시키는데 용이함
전극의 두께 컨트롤이 다른 장비에 비해 우수하며 막 질이 우수함
태양전지 뿐 아니라 여러 반도체 소자의 전극형성에도 이용됨