(주)에스엔텍
CES-5006
12년
주장비
기타
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2012-07-10
247,500,000원
고정형
건별
115,500원
장비명 : 분자선 에피탁시 시스템 (Molecular Beam Epitaxy System)
용도 : 화합물 박막 태양전지 제조용 공정장비
CIGS 박막 태양전지를 제작함에 있어 막의 형성이 용이함
System 구성 : Process Chamber, Load-Lock Chamber
Effusion Cell : 20cc, 4set (Cu, In, Ga, NaF)
125cc, 1set (Se)
Substrate 사이즈 : 100mm 100mm
Substrate Heater : Max. 700℃
Thickness Uniformity : ≤±5%@2
DC Power Supply : 45V, 25A, 5 sets
CIGS 박막 태양전지를 제작하는데 이용됨
박막을 형성함에 있어 제작이 쉽고 막의 성분비율을 조정하는데 용이한 이점이 있으며
온도 및 rate 를 조종하는데 용이함
다른 장비에 비해 막 질이 우수함
System 구성 : Process Chamber, Load-Lock Chamber
Effusion Cell : 20cc, 4set (Cu, In, Ga, NaF)
125cc, 1set (Se)
Substrate 사이즈 : 100mm 100mm
Substrate Heater : Max. 700℃
Thickness Uniformity : ≤±5%@2
DC Power Supply : 45V, 25A, 5 sets