한국진공(주)
KaRon-ISD860x1950
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2014-08-26
86,500,000원
원
1.5 m급 선형 이온원의 표면처리 공정 평가를 위한 진공챔버임.
광폭 선형 이온빔 성능 평가 및 표면처리 (전처리, 증착) 공정 개발을 수행하고자 함.
본 연구소에서 개발한 선형 이온소스를 장착할 수 있는 Port를 가지고 있으며, 고진공 배기가 가능한 진공 배기 시스템을 가지고 있어야 함.
선형 이온소스를 통한 표면처리 공정(전처리, 증착) 평가가 가능한 장비로써, 진공상태에서 금속 부품에 표면처리를 하고 일정량의 금속 혹은 카본 물질을 코팅하는 공정이 가능한 진공 시스템이어야 함
진공 성능
① 도달 진공도: 5 × 10-7 Torr 이하
② 배기속도: 8 × 10-5 Torr/ 30 Sec 이하
③ 진공 기밀도: 5.0 × 10-10 Torr L/Sec 이하
장비 세부 사양
① 챔버 및 제품 Loading Jig Part
- 챔버의 크기 Φ800 x 1950 H (mm)
- 제품투입 Jig 투입방법: 6 축
- 챔버의 재질: JIS SUS-304
- 챔버의 형식: 수직형, 1 Door
② 챔버에 부속된 부품
- 고진공 배기 port (GT-250x1 Flange)
- View Port
- Roughing 배기 Port (6inch VF Flange)
- Spare Port (GP-15,NW-25,NW-40)
- Ion Source Port : 3 Pos'
- Cathode Port : 1 Pos' - R/V, F/V, Gauge/V ③ 진공 챔버 운영용 컨트롤 시스템
- Control Unit: PLC/XGT
- Operation Panel: Graphic Color Tough Screen Display