(주)아이엠텍
모델명 없음
주장비
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기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2014-01-09
1,100,000,000원
원
* 장비 원리 설명
- 캐리어 가스가 세라믹 분말이 담긴 Feeding Chamber 로 유입되고 Feeding Chamber 내에 부유하는 미세한 세라믹 분말들을 실어 진공 상태의 증착 Chamber 내에 있는 기판으로 노즐을 통하여 분사하게 되는 원리를 가지고 있음. 나노 세라믹 분말 또는 과립을 이송기체에 실어 진공 분위기 내에 있는 기판에 분사할 시 음속으로 분사함으로서 박막이 형성하게 됨.
- 구성 : Loader, Load lock, Deposition Chamber, Filter Chamber, Nozzle 등의 Module 로 구성
- 장비 사양
1. Dimension(mm) : 5,000(W)X8,400(D)X3,800(H)
2. Insert a sheet of glass : Conveyor Type
3. Moving speed : Max 2,000mm/min
4. pass line : 2,000mm
5. Base Pressure : <5 x 10E-3 Torr
6. Substrate : 1,100mm X 1,300mm
7. Glass quantity : Single substrate process
8. Effective area : 1,270mm X 1,070mm
9. Mask Frame : 1,400mm(W) X 1,600mm(D)
- 박막 두께 : 형성되는 박막은 수백 나노 미터에서 수십 마이크로미터 범위로 두께 조절 가능