Jeol
JSM-IT710HR/LA
10년
주장비
분석
광학/전자영상장비 > 현미경 > 주사전자현미경
공동활용서비스
2026-09-04
446,000,000원
없음
1. 고분해능 전자빔을 이용한 반도체·디스플레이 소재 및 소자의 표면 형상과 미세구조 관찰
2. 이차전자 및 후방산란전자 영상을 통한 표면 형상 및 조성 대비 관찰
3. 에너지분산형 X선 분광법(EDS)을 이용한 구성 원소의 정성·정량 분석
4. 원소별 선 분석 및 매핑을 통한 시료 내 원소 분포 확인
5. 시료 관찰 중 실시간 EDS 분석 및 영상·분석 데이터 통합 관리
1. 모델명: JEOL JSM-IT710HR/LA
2. 전자총: in-lens Schottky 전계방출형 전자총(FEG)
3. 분해능: 고진공 이차전자 영상 기준 1.0 nm(20 kV), 3.0 nm(1 kV)
4. 가속전압: 0.5~30 kV
5. 배율: 5~600,000배
6. 검출기: 이차전자 검출기 및 후방산란전자 검출기
7. 진공 모드: 고진공·저진공 모드 전환, 저진공 압력 범위 10~150 Pa
8. 시료 스테이지: 5축 전동 구동, 최대 직경 200 mm 시료 장착 가능
9. EDS 검출기: 실리콘 드리프트 검출기(SDD), 검출면적 30 mm², 에너지 분해능 129 eV(Mn Kα)
10. 분석 소프트웨어: 원소 정성·정량 분석, 선 분석, 원소 매핑 및 실시간 분석 지원
11. 부속장치: 시료 위치 확인용 컬러 이미지 내비게이션, 챔버 내부 관찰 카메라, 제진 시스템 및 시료 코팅 장치
기관의뢰
고정형
시간별
[Hr] 150,000원
본 장비는 전계방출형 주사전자현미경과 에너지분산형 X선 분석기를 결합한 SEM-EDS 시스템으로, 반도체·디스플레이 소재 및 소자의 표면 형상과 미세구조를 관찰하고 구성 원소와 분포를 분석하는 데 사용된다. 고진공·저진공 관찰과 원소 정성·정량 분석, 선 분석 및 매핑을 지원한다.
1. 모델명: JEOL JSM-IT710HR/LA
2. 전자총: in-lens Schottky 전계방출형 전자총(FEG)
3. 분해능: 1.0 nm(20 kV, SEI, 고진공), 3.0 nm(1 kV, SEI, 고진공)
4. 배율: 5~600,000배
5. 가속전압: 0.5~30 kV
6. 시료 스테이지: 5축 전동 구동, 최대 직경 200 mm 시료 장착 가능
7. 검출기: 이차전자 및 후방산란전자 검출기
8. 저진공 압력 범위: 10~150 Pa
9. EDS: 실리콘 드리프트 검출기(SDD), 검출면적 30 mm², 에너지 분해능 129 eV(Mn Kα)
10. 분석 기능: 원소 정성·정량 분석, 선 분석 및 원소 매핑