Applied Spectra, Inc.

없음

1) 화학 전처리 과정 없이 고체 샘플 표면에 고에너지 레이저를 조사하여 미세 플라즈마를 발생시키고, 원소 고유의 발광 파장을 수집하여 성분 종류 및 함량을 실시간으로 분석
2) 향후 연동될 ICP-MS 장치로 고체 에어로졸 시료를 미세 기화시켜 캐리어 가스와 함께 안정적으로 이송하는 레이저 어블레이션 가스 혼합 및 흐름 제어 기능 수행
3) 레이저 스폿 크기 가변 제어와 고밀도 멀티 펄스 주사를 통해 고체 재료 표면의 특정 미세 위치 분석 및 수직 깊이별 성분 변화 추적

1) 고안정성 레이저 시스템은 고온 세라믹 및 금속 시료의 파괴 분석을 위해 266 nm 파장의 고해상 나노초 레이저를 탑재하였으며, 자가 DI Water 냉각 기능 및 20Hz 반복률 제어로 높은 스펙트럼 안정성을 유지한다.
2) 광대역 고감도 분광 검출부는 6채널 광대역 검출기(ES6)가 결합되어 최소 190 nm 자외선 영역부터 최대 1040 nm 근적외선 영역까지 원자 방출 스펙트럼을 누수 없이 동시에 정밀 검출한다.
3) 고정밀 자동 구동 챔버 및 스테이지는 0.2㎛ 분해능의 정밀 XY 스테이지와 자동 초점 Z축 제어로 균일한 샘플 위치 지정을 보장하며, 전용 샘플 챔버와 가스 이송 다이어프램 매니폴드가 안정적인 운용 환경을 제공한다.