SEC

없음

최대 30kV 가속전압에서 5nm(SEI 기준)의 고해상도 분해능을 제공하여 디스플레이 소재 및 미세구조 분석에 적합함
20배부터 250,000배까지의 넓은 배율 범위를 지원하여 저배율 관찰부터 고배율 정밀 분석까지 가능함
1kV~30kV의 6단계 가속전압 선택 기능을 통해 시료 특성에 맞는 유연한 관찰 조건 설정 가능
텅스텐(W) 필라멘트 기반 전자총을 채택한 카트리지 교환 방식으로 유지관리 및 교체가 용이함
시편 교체 시 필라멘트 공간이 대기와 접촉하지 않는 구조로 진공 안정성과 장비 수명 향상에 유리함
마그네틱 코일형 2단 집속렌즈 및 1단 대물렌즈 구성을 통해 안정적인 전자빔 제어 및 영상 품질 확보
8극 전자기장형 비점 조정 장치를 적용하여 영상 왜곡을 정밀하게 보정 가능
4홀 가변 조리개(30/50/50/100 μm)를 적용하여 해상도와 콘트라스트 조절의 유연성 확보
E-T 타입 2차 전자(SE) 검출기를 기본 탑재하여 표면 형상 관찰에 최적화된 영상 획득 가능
SE와 BSE 영상의 병합(Merge) 및 분리(Split) 기능을 지원하여 형상 정보와 조성 대비 정보를 동시에 분석 가능
X, Y, Z, 회전(R), 기울기(T)를 포함한 5축 완전 자동화 스테이지 시스템을 채택하여 정밀한 시편 위치 제어 가능
X·Y축 각 40㎜ 이송, 360° 회전, -45°~90° 틸트, Z축 최대 40㎜ 이동을 지원하여 다양한 시편 관찰 각도 확보
최대 직경 80㎜, 높이 50㎜ 시편 장착 가능으로 디스플레이 관련 다양한 샘플 대응 가능
진공 상태에서 실시간 Z축 조정 기능을 통해 심도 깊은 영상 구현 및 관찰 효율 향상
자동 캘리브레이션(5축 홈 포지션 설정) 기능을 통해 반복 실험 시 재현성 확보
5축 스테핑 모터 적용(정밀도 3μm 이내)으로 교육·실습 환경에서도 안정적인 장비 운용 가능
전자빔 시프트 방식(X, Y ±75μm)을 적용하여 스테이지 이동 없이 미세 영역 탐색 및 연속 관찰 가능

본 탁상형 주사전자현미경(Tabletop SEM)은 디스플레이 소재 및 공정 교육·실습을 목적으로, 나노미터 수준의 미세구조를 직접 관찰·분석할 수 있도록 설계된 고해상도 전자현미경 장비이다. 복잡한 전처리나 대형 장비 운용 부담 없이도 학생 및 교육생이 직접 조작하며 분석 경험을 축적할 수 있어, 디스플레이 인력양성사업의 실습 중심 교육 환경 구축에 핵심적인 역할을 수행한다.

본 장비는 30kV 가속 전압과 2차 전자(Secondary Electron, SE) 검출기 기준에서 최대 5nm 수준의 해상도를 구현할 수 있으며, 이는 탁상형 SEM 장비 중에서도 상위 수준의 성능에 해당한다. 이러한 해상도는 디스플레이 소재에서 요구되는 박막 구조, 미세 결함, 표면 거칠기, 입자 분포 등 나노 단위의 형상 분석을 충분히 수행할 수 있는 수준으로, 박막 트랜지스터(TFT), OLED 기판, ITO 투명전극 등 디스플레이 공정 핵심 소재 분석에 적합하다. 이를 통해 교육 과정에서도 단순 관찰을 넘어 형상 기반의 구조 이해와 정량적 분석 능력을 함께 배양할 수 있다.

확대 성능 측면에서는 최소 20배에서 최대 250,000배까지의 넓은 배율 범위를 제공하여, 시료의 전체적인 매크로 구조부터 나노 수준의 미세 형상까지 단계적으로 관찰할 수 있다. 이는 디스플레이 소재의 입자 크기 분포, 박막 두께 변화, 계면 구조, 공정 결함 등을 분석 목적에 따라 유연하게 관찰할 수 있음을 의미하며, 연속적인 배율 조절 기능을 통해 관찰 대상 부위를 빠르고 직관적으로 탐색할 수 있다. 이러한 특성은 교육생이 분석 흐름을 직접 설계하고 관찰 조건을 조절해보는 실무형 분석 교육에 매우 효과적이다.