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장비정보

제작사
Litron Laser
모델 명
plasma400-200

내용연수
5년
구분
주장비

용도
계측
표준 분류
광학/전자영상장비 > 광파발생/측정장비 > 레이저발생장비

장비활용범위
공동활용서비스
취득일
2025-12-16

취득금액
291,506,400원
인증정보
없음
기능
본 펠리클 투과도 분석용 LPP-EUV 광원 레이저는 극자외선 리소그래피 공정용 투과형 소재의 광학 투과성을 평가하기 위한 EUV 검사기의 주 장비로 활용됩니다. 본 장비는 고출력 나노초 레이저로 주석 플라즈마 생성을 통해 13.5 nm 대역 파장의 극자외선을 생성하며, 이는 투과도 평가를 위한 EUV 광원으로 사용됩니다.
장비 상세설명
본 펠리클 투과도 분석용 LPP-EUV 광원 레이저는 Q-switch 방식을 통해 10 ns의 펄스 폭을 갖는 나노초 펄스 레이저를 생성합니다. 펄스 레이저의 기본 파장은 1064 nm 이며, 펄스 에너지는 400 mJ입니다.

이용안내

사용형태
기관의뢰

설치형태
고정형
사용료 형태
시간별

장비 사용료
[Hr] 8,910원

장비설명

본 펠리클 투과도 분석용 LPP-EUV 광원 레이저는 고출력 나노초 레이저로 일련의 광학 시스템을 통해 고진공 챔버에 설치된 주석 타겟에 집속되며, 높은 첨두 출력으로 주석 플라즈마를 생성하여 13.5 nm 파장의 극자외선을 생성하는데 활용됩니다.

장비 구성 및 성능

본 펠리클 투과도 분석용 LPP-EUV 광원 레이저는 레이저 헤드와 전원 유닛으로 구성됩니다.

장비의 성능
- 모델명 : Plasma 400-200
- 방식 : Q-swtiched ns laser
- 출력 : 80 W
- 파장 : 1064 nm
- 펄스 에너지 : 400 mJ
- 반복률 : 200 Hz
- 펄스폭 : 9-11 ns
- 출력 안정도 : 0.3%
- 빔 직경 : 9.5 mm
- 빔 발산각 : 2.0 mrad

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장비 매뉴얼