Thermo Fisher Scientific

없음

1. Electron optics
(1) Electron Beam Resolution
- 0.6 nm at 30 kV- SE resolution
- 0.7 nm at 1 kV SE resolution
(2) Accelerating voltage : 350 V to 30 kV
(3) Magnification : 8x to 1,280Kx
(4) High stability Schottky thermal field emitter and available unicolor optics.
(5) Heated objective apertures to extend aperture lifetime
2.Ion beam resolution(FIB mode)
(1) 2.5 nm at 30 kV
3.Field emission gun
(1) Probe current: 0.8 pA to 100 nA
4.High Throughput ion column optics
(1) High-current ion column with Ga liquid-metal ion source for use in high vacuum
(2) Acceleration voltage: 0.5 to 30 kV
(3) Probe current: 0.1 pA to 100 nA

FIB의 갈륨 1차 이온빔(Primary ion beam)이 시료 표면에 충돌하면 시료 표면을 구성하는 원자를 튕겨내는 sputtering 현상이 발생합니다. 이때 나오는 물질은 2차 이온(Secondary ion) 또는 중성원자 (n0) 혹은 2차 전자이며, 발생된 sputtering ion이나 2차 전자를 수집하여 이미지를 형성할 수 있습니다. 또한 sputtering 과정을 통해 시료를 가공할 수 있습니다.