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장비정보

제작사
Flow Control Technology
모델 명
FC-2900

내용연수
5년
구분
부대장비(부가장치) (주장비:수화기상증착장비)

용도
시험
표준 분류
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비

장비활용범위
공동활용서비스
취득일
2025-12-31

취득금액
30,569,000원
인증정보
없음
기능
- 독립된 배기 시스템을 구축하여 타 장비 운전 및 외부 환경 변화에 의한 간섭을 최소화하고, 안정적인 성장 분위기 형성이 가능함.
- 배기 유속 제어가 가능한 배기팬과 실시간 배기 유속 측정이 가능한 유속계를 설치하여 정밀한 실험 분위기 제어가 가능함.
- MFC 용량 확장을 통해 원활한 배기 흐름을 형성할 수 있는 대용량 가스 공급이 가능하며, 넓은 공정 영역에서 성장 조건 제어가 가능함.
장비 상세설명
- 4인치 HVPE 장비에 적용되는 독립형 배기 시스템으로, 성장 공정 중 발생하는 산성 가스를 효과적으로 제거하여 외부 환경에 대한 영향을 최소화하고 안정적인 성장 분위기를 확보함.
- 고정밀 가스 유량 제어기(MFC)를 적용하여 HCl, N₂, SiH₄ 등의 유량을 정밀하게 제어할 수 있으며 ±1% 이내의 높은 정확도와 우수한 재현성을 통해 공정 반복성과 신뢰성을 확보함.
- 배기 유속 제어가 가능한 배기팬과 실시간 유량 모니터링 시스템을 적용하여 리액터 내부 가스 흐름을 안정화하고, 기상 반응 및 파우더 발생을 억제하여 성장 균일도 및 공정 재현성을 향상시킴.
- 기존 4인치 HVPE 장비의 제어 프로그램과 호환되도록 설계되어 장비 연동이 용이하며, 국산 스크러버 및 배기 시스템 적용으로 유지보수 및 소모품 교체가 용이하여 장기적인 안정 운용에 적합함.

이용안내

사용형태
기관의뢰

설치형태
고정형
사용료 형태
건별

장비 사용료
[EA] 1,500,000원

장비설명

- 4인치 HVPE 장비에 적용되는 독립형 배기 시스템으로, 성장 공정 중 발생하는 산성 가스를 효과적으로 제거하여 외부 환경에 대한 영향을 최소화하고 안정적인 성장 분위기를 확보함.
- 고정밀 가스 유량 제어기(MFC)를 적용하여 HCl, N₂, SiH₄ 등의 유량을 정밀하게 제어할 수 있으며 ±1% 이내의 높은 정확도와 우수한 재현성을 통해 공정 반복성과 신뢰성을 확보함.
- 배기 유속 제어가 가능한 배기팬과 실시간 유량 모니터링 시스템을 적용하여 리액터 내부 가스 흐름을 안정화하고, 기상 반응 및 파우더 발생을 억제하여 성장 균일도 및 공정 재현성을 향상시킴.
- 기존 4인치 HVPE 장비의 제어 프로그램과 호환되도록 설계되어 장비 연동이 용이하며, 국산 스크러버 및 배기 시스템 적용으로 유지보수 및 소모품 교체가 용이하여 장기적인 안정 운용에 적합함.

(장비사용료 별도 협의)

장비 구성 및 성능

< 배기팬 주요 사양 >
- 풍속 제어 시스템 탑재
- 우수한 내식성과 내후성
- 산성 가스 사용 가능
- 50℃이하의 온도 가스 배기 가능
- 풍량 및 정압 : 20 m /min × 200 Pa
(20mmAq)
- 전동기 : 0.4 W × 4P × 3ø × 220/380 V × 60 Hz
- 회전수 : 1750 min × 1 rpm
- 흡입 토출 250ø

< MFC 주요 사양 >
- HCl 용량 2,000 sccm : 2 ea
- N2 용량 5,000 sccm : 4 ea
- O2 용량 10,000 sccm : 2 ea
- Shutdown : MFC 용량의 2%
- 응답 시간 : 1 sec
- 유량 정확도 : MFC 용량의 ±1%
- 선형성 : MFC 용량의 ±0.5%
- 재현성 : MFC 용량의 ±0.2%
- Supply voltage : -15V VDC±4%. 110 mA ; +15VDC 4%, 110mA
- Power consumption : 3.3 watts ±15VDC

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