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본 장비는 첨단 반도체 제조공정에서 사용되는 소재·부품의 부식 및 식각 가스에 대한 내파티클특성을 고온 등 특수환경 조건에서 실시간으로 평가·시험 하는 장비임.

장비성능으로는 반도체 부품에서 발생하는 파티클을 분석하기 위한 장비로서, 용량성 결합 플라즈마 체계를 갖추고 있다. 또한 소재·부품 평가용 이온 식각 장비는 300 mm 웨이퍼를 수용할 수 있는 최대 400 ℃까지 운용이 가능한 척이 있고, 웨이퍼 이 외에도 샤워헤드 등 각종 부품을 넣을 수 있도록 설계되어 있다. 또한 수소, 질소, 사불화탄소, 삼불화질소, 산화질소, 황화수소를 포함하고 여분의 3가지 가스를 사용할 수 있는 질량 흐름 제어기 체계를 갖추고 있다. 본 장비의 역할은 300 mm급 선단 반도체 공정 환경을 모사하여, 소재·부품에서 발생하는 오염 입자를 실시간으로 측정하고 첨단 제조공정에서 사용되는 소재·부품에 대한 내파티클 특성을 정량적으로 평가할 수 있는 역할을 할 예정임.