Plasma Xe Source를 활용한 집속이온빔 사용중 전자빔 및 대기에 취약한 샘플을 활용, GloveBox에서 집속이온빔까지 대기에 노출하지 않고 시료를 이동, 초저온, 고진공하에서 집속이온빔을 활용한 분석을 진행함으로 기존에 전자빔 데미지 및 대기 노출로 인한 한계가 있었던, 차세대 디스플레이 소자 분석에 활용할 예정임.

1) Sample transfer between glovebox and SEM/DB without exposure to O, H and N
2) Fast transfer (order of minutes) in vacuum or argon atmosphere
3) Compatible with most glovebox systems and available with optional direct glovebox connectivity
4) Sample size : Maximum sample height : 15mm or higher, Maximum dimeter : 25mm or wider
5) Boil-off nitrogen gas used for gas cooled stage with LN2 dewar
6) Temperature operating range: Room temperature to -190℃