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장비정보

제작사
Jeol
모델 명
JSM-IT710HR/LV

내용연수
10년
구분
주장비

용도
분석
표준 분류
광학/전자영상장비 > 현미경 > 주사전자현미경

장비활용범위
공동활용서비스
취득일
2025-12-22

취득금액
589,500,000원
인증정보
없음
기능
*레이저 용접, 절단, 열처리, 클래딩 등의 레이저 가공부의 신뢰성 평가 수행 필요
- 각종 분석기기 및 소프트웨어를 연동하여, 레이저 가공부 미세구조 관찰을 위한 복합적인 분석장치 플렛폼의 구축을 통하여 비철금속에서 레이저 활용성 평가 및 응용기술 적합성 평가 수행을 위한 E모빌리티 제작기술 역량확보
장비 상세설명
- 핵심 사양

① 주사전자현미경 기본 사양.

․ Image resolution: 1.0nm or less (20kV, SE image)

3.0nm or less (15kV, 3nA, 분석조건)

1.8nm or less (15kV, BED, Low Vacuum)

․ Magnification: x5 ~ x600,000 (Photo magnification)
: x15 ~ x1,767,305 (Display magnification)

․ Probe current: less than 10 pA to 300nA

․ Electron source: In-lens Schottky FE-Gun

② 전자회절분석 system (EBSD)

이용안내

사용형태
기관의뢰

설치형태
고정형
사용료 형태
시간별

장비 사용료
[Hr] 120,000원

장비설명

*레이저 용접, 절단, 열처리, 클래딩 등의 레이저 가공부의 신뢰성 평가 수행 필요
- 각종 분석기기 및 소프트웨어를 연동하여, 레이저 가공부 미세구조 관찰을 위한 복합적인 분석장치 플렛폼의 구축을 통하여 비철금속에서 레이저 활용성 평가 및 응용기술 적합성 평가 수행을 위한 E모빌리티 제작기술 역량확보

장비 구성 및 성능

- 핵심 사양

① 주사전자현미경 기본 사양.

․ Image resolution: 1.0nm or less (20kV, SE image)

3.0nm or less (15kV, 3nA, 분석조건)

1.8nm or less (15kV, BED, Low Vacuum)

․ Magnification: x5 ~ x600,000 (Photo magnification)
: x15 ~ x1,767,305 (Display magnification)

․ Probe current: less than 10 pA to 300nA

․ Electron source: In-lens Schottky FE-Gun

② 전자회절분석 system (EBSD)

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