KMLABS

없음

본 장비는 고차조화파 발생을 통해 극자외선 영역의 결맞은 광을 생성하고, 원하는 파장 대역의 광을 선택적으로 분리하여 측정 대상에 안정적으로 공급하는 극자외선 광원 장비이다. 또한 광 출력, 파장, 반복률 및 빔 특성을 제어할 수 있어 다양한 극자외선 광학 실험과 정밀 측정에 필요한 광원 조건을 제공한다.

본 고차조화파 기반 극자외선 광원은 펨토초 레이저의 높은 출력을 기반으로 비활성 가스인 헬륨 환경 내에서 13.5 nm 대역 고차조화파로 변환되는 원리를 기반으로 결맞은 극자외선 광을 생성한다. EUV 출력은 199 nW 수준이며, 13.56 nm의 중심 파장을 가진다. 1.77% 수준의 EUV 출력 안정도를 갖고, 3 urad 미만의 빔 포인팅 안정도를 가진다. 반복률은 7-10 kHz 범위에서 제어 가능하다 헬륨 기반 고차조화파 생성은 약 7 kHz의 반복률에서 최적화 되었다. 본 장비는 간섭을 일으킬 수 있는 결맞음성을 가지므로 정밀 표면 분석이 가능하여, 극자외선 반사 부품의 반사도 평가 뿐만 아니라 표면 불량 형상 등의 정밀 측정 기술 적용이 가능하다.