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장비정보

제작사
제이백
모델 명
JVMS-P436LC2512

내용연수
12년
구분
주장비

용도
교육
표준 분류
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터

장비활용범위
공동활용서비스
취득일
2025-12-31

취득금액
72,160,000원
인증정보
없음
기능
4개의 target 을 장착 가능
2개의 DC plasma gun
1개의 RF plasma gun
plsama 를 통한 박막 증착가능
두개 이상의 plasma gun 으로 Co - sputtering 증착으로 alloy 박막 증착 가능
장비 상세설명
4개의 target 을 장착 가능
2개의 DC plasma gun
1개의 RF plasma gun
plsama 를 통한 박막 증착가능
두개 이상의 plasma gun 으로 Co - sputtering 증착으로 alloy 박막 증착 가능

이용안내

사용형태
직접사용

설치형태
고정형
사용료 형태
건별

장비 사용료
[Hr] 5,000원

장비설명

-반도체 후공정 (도금용 seed 층) 및 패키징 배선 (UBM 등)을 위한 진공 박막 증착
4개의 target 을 장착 가능
2개의 DC plasma gun
1개의 RF plasma gun
plsama 를 통한 박막 증착가능
두개 이상의 plasma gun 으로 Co - sputtering 증착 가능

장비 구성 및 성능

ㅇ 구축장비 주요 사양 ㅇ
진공도 : 2 x 10-6 torr
마그네트론 스퍼터링 건: 2 inch, 3 ea +spare port 1 ea
DC 전원: 1 kW (2 ea), DC/pulse DC
- RF 전원: 600 W (13.56 MHz) (1 ea), RF automatching
gas control module: MFC Ar (100 sccm)
Co-sputtering depo 가능 (합금 박막 증착용
기판 : 크기 4인치, 회전 (0~ 20 rpm)
가열 제어(상온 ~ 500 C)

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