제이벡
JVMS-P43H6LC
12년
주장비
교육
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터
공동활용서비스
2025-10-31
99,000,000원
없음
- DC Power : 1 set
- RF Power : 2 set
Vacuum level : Turbo-Molecular Pump (10^-10 hPa)
Substrate Heater : 550°C
Mass Flow controller : Ar 100sccm/N2 30sccm/O2 30sccm
산화물 반도체 박막 증착을 위한 장비.
간단하고 편리한 조작으로 DC plasma 및 RC 제어가 가능하여 효율적으로 물질 증착이 가능하다.
Ar, O2, N2의 가스를 이용하여 여러 물질을 증착이 가능함.
기관의뢰
이동형
기타
[EA] 60,000원
산화물 반도체 박막 증착을 위한 장비.
간단하고 편리한 조작으로 DC plasma 및 RC 제어가 가능하여 효율적으로 물질 증착이 가능하다.
Ar, O2, N2의 가스를 이용하여 여러 물질을 증착이 가능함.
-Target size: 4“
-Substrate size: 6“
-DC Power: 1set
-RF Power: 2set
Vacuum level: Turbo-Molecular Pump(10^-10 hPa)
Substrate Heater: 550℃
Mass Flow Controller: AR 100sccm/N2 30sccm/O2 30sccm