○ 진공 챔버 사양
- Size : 1400mm(Φ) x 1800mm(h)
- 최종 도달 진공도 : 1.0x10-6torr @ Room temperature
- Chamber leak rate
 · Rotation Part  moving 시 : 5 x 10-9 mbar․ℓ/sec 이하
 · Without Moving : 1 x 10-9 mbar․ℓ/sec 이하
- Heating 시스템 온도 편차
   ·Max. temperature : 400 ℃ ± 5 ℃
   ·Sensing point  : 3 point (챔버 Center 상, 중, 하 측정)

○ 진공 사양
  - Untimate pressure : 3 x 10-6 torr 이하 (상온)
  - Untimate pressure : 7 x 10-6 torr 이하 (300℃)
  - Pumping time : 저진공 ; 대기압 - 1 x 10-2 torr 까지 10분 이내
               고진공 ; 저진공 ~ 1 x 10-5 torr 까지 15분 이내
  - Pumping time(@300℃) :대기압 - 1 x 10-2 torr 까지 15분 이내
                   저진공 ~ 1 x 10-5 torr 까지 30분 이내
  - Main valve 차단하고, 12시간 경과시 5 x 10-2 torr 이하 진공도 유지

○ 코팅 공정 사양
  - Coating Uniformity : 1300 x 100mm 모재에서 ±5%이하의 코팅 균일도를 나타내야 하며 균일도 측정은 4“ Wafer를 1500mm x 100mm 모재의 상부(1400mm 지점),중부 (750mm 지점), 하부(100mm 지점)에 부착한 후 코팅 공정을 수행하고 4”웨이퍼의 상하좌우 중간 5Point를 측정함
  - 아크 Source : 타겟 Size 100mm(Φ), 타겟 수량 12개
  - Bias는 아크 이온플레이팅 공정 중에 모재에 인가될 수 있어야 하며 공정 중 이상 방전 현상이 발생되지 않도록 아크 억제