에스브이에스

없음

○ 크기 200㎜×200㎜의 유리기판 및 유연필름, 웨이퍼 기판을 이용하여 감광성 소재를 이용한 회로 패턴 형성
○ Index(cassette station) unit
- 25 slot의 cassette를 이용하여 유리기판 및 웨이퍼를 loading/Unloading
○ Spin Coater unit
- 최대 5,000rpm의 모터 스피드를 활용하여 소재 종류 및 점도에 따라 개별적 공정조건 수립 가능
- 8인치 웨이퍼 기준, ±1% 수준의 코팅 균일도 확보 가능
○ Spin Developer unit
- 최대 5,000rpm의 모터 스피드를 활용하여 소재 종류 및 점도에 따라 개별적 공정조건 수립 가능
○ Hot plate unit
- HP 2sets : 히터 온도 20~200℃ 제어를 통한 소재/소자별 선택적인 제어 가능
- HP 1set : 히터 온도 50~400℃ 제어를 통한 고온 경화 소재/소자별 선택적인 제어 가능
○ Cool plate unit
- 20~2

- 감광성 소재를 코팅하고, 원하는 회로 패턴이 포함된 포토마스크를 통해 기판 위에 회로 패턴을 형성하는 장비임
- Photoresist, Poly imide, BM, Bank, Color filter 등 다양한 감광성 소재를 이용하여 디스플레이, 반도체, 센서 분야 등 다방면의 활용이 가능한 필수 공정장비임
- 첨단 나노소재부품 기업의 사업화 지원을 위한 공정 및 시제품 제작에 활용