(주)다다코리아
DIEC-1200
10년
주장비
교육
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
공동활용서비스
2024-12-26
156,230,000원
없음
가. 기판을 로딩하는 로드락 챔버
나. 기판 무빙 시스템 및 mechanical 웨이퍼 척
다. 히팅 및 쿨링 온도 조절 장치
라. 고주파 전원 발생장치(RF Generator)
마. 가스유량 조절 장치(MFC, mass flow controller)
바. 가스 샤워 헤드(gas shower head)
사. RIE(Reactive Ion Etching) 방식의 이방성 식각
아. 온도 센서 장착 및 진공 기밀을 유지할 수 있는 피드스루 시스템
가. 프로세스 챔버
- 소 재 : Al6061
- 사이즈 : 미정
나. 로드락 챔버
- 소 재 : STS304
- 사이즈 : 600 x 400 x 300 mm
다. 웨이퍼 고정 mechanical chuck
- substrate : 4“ susceptor graphite
라. 진공 펌프
1) Dry Pump
- Pumping speed : 2,000 l/min
- Ultimate vacuum : 1.5 x 10-2 Torr(No purge)
2) Rotary Pump
- Pumping speed : 400 l/min
- Ultimate vacuum : 5 x 10-2 Torr
마. 고출력 파워 공급장치
- 600W RF generator & matcher
바. 진공 측정 게이지
- Baratron gauge
- Pirani guage
사. MFC 및 Readout
- Gas : N2, Ar, O2, CF4
- 유량 : 최대 100 sccm
- Readout channel : #6
아. K type TC & Feedtrough
- Wide range Temperature : -160℃ ~ 1200℃
- Comon use Plug
자. System & Control Rack
- PLC control
- HMI Program
기관의뢰
고정형
시간별
[Hr] 50,000원
본 장비는 건식 식각 장비로 진공상태의 chamber 내 gas를 공급하고, 에너지를 가해 플라즈마를 발생시킨 후, 플라즈마 소스로 물리적, 화학적 반응을 통해 wafer위 박막을 제거하여 패턴을 만드는 공정에 활용되는 장비임
가. 기판을 로딩하는 로드락 챔버
나. 기판 무빙 시스템 및 mechanical 웨이퍼 척
다. 히팅 및 쿨링 온도 조절 장치
라. 고주파 전원 발생장치(RF Generator)
마. 가스유량 조절 장치(MFC, mass flow controller)
바. 가스 샤워 헤드(gas shower head)
사. RIE(Reactive Ion Etching) 방식의 이방성 식각
아. 온도 센서 장착 및 진공 기밀을 유지할 수 있는 피드스루 시스템