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장비정보

제작사
Carl Zeiss
모델 명
Sigma 360

내용연수
11년
구분
주장비

용도
분석
표준 분류
광학/전자영상장비 > 현미경 > 주사전자현미경

장비활용범위
공동활용서비스
취득일
2025-09-18

취득금액
405,396,410원
인증정보
KS I 0051,KS D ISO 15632,KS D ISO 22493,KS D ISO 16700,KS C ISO 19749
기능
O 전자광학 컬럼 제어 기능: 전계방출형 전자총(FEG)과 Gemini 컬럼을 기반으로 전자빔 정렬, 추출기 전압 조정, 필라멘트 전류 수정 기능 지원.
O SmartSEM 소프트웨어 통합 제어: 전자현미경 하드웨어와 연동하여 영상 캡처, 파라미터 최적화, 데이터 저장·보정 등 전체 시스템을 제어.
O 자동 교정 및 진공 제어 기능: OptiProbe Calibration을 통해 음극 교체 후 자동 보정 수행, 진공 모드(고진공/가변압) 전환 제어.
O 다중 검출기 운용: SE, BSE, VPSE, CL 등 10종 이상의 검출기 지원으로 시료의 형태·조성·결함 정보 동시 수집 가능.
O 시편 스테이지 제어 기능: 5축(X, Y, Z, Tilt, Rotation) 전동식 제어, SmartSEM 인터페이스 및 듀얼 조이스틱으로 정밀 조작 가능.
O 영상 해상도 및 스캔 기능: 최대 32k×24k 픽셀, 16비트 다이내믹 레인지 영상 지원, 최대 스캔 속도 50 ns/픽셀로 초고해상도 분석 가능.
O 사용자 접근 관리 기능: Novice–Expert–Service 세 단계 권한 체계로 사용자별 접근 제한 및 시스템 보호.
O 드리프트 보정 및 자동 백업: SEM Drift Correction을 통해 시편 변위 자동 보정, SmartBackup Tool로 구성·보정 데이터 백업 가능.
O 에어락 및 클리닝 옵션: 진공 유지 상태에서 시편 교체 가능한 에어락 시스템, 플라즈마 클리너로 오염물 제거.
O 분석 확장성: Raman 분광, EBSD, EDS, STEM 모드 등과 연계 가능, 재료 분석 및 반도체 단면 관찰에 적합.
장비 상세설명
O 장비 유형: 전계방출형 주사전자현미경(Field Emission Scanning Electron Microscope, FE-SEM)
O 주요 용도: 시료의 표면 형상, 미세구조, 조성 분석
O 전자광학 시스템: Gemini 컬럼 기반 고해상도 전자빔 형성
O 해상도 특성: 저가속 전압에서도 안정적 이미지 품질 유지
O 검출기 구성: SE, BSE, EDS 등 다양한 검출기 탑재 가능
O 시료 환경: 고진공 및 저진공 모드 지원
O 자동화 기능: 전자빔 정렬, 진공 제어, 이미지 저장 자동화
O 응용 분야: 반도체, 재료과학, 나노소자, 생명과학 연구
O 소프트웨어: SmartSEM 또는 Gemini UI를 통한 통합 제어
O 특징 요약: 고해상도, 고안정성, 다검출기 확장성, 사용자 친화적 인터페이스

이용안내

사용형태
기관의뢰 직접사용

설치형태
고정형
사용료 형태
시간별

장비 사용료
[Hr] 80,000원

장비설명

O 장비 유형: 전계방출형 주사전자현미경(Field Emission Scanning Electron Microscope, FE-SEM)
O 주요 용도: 시료의 표면 형상, 미세구조, 조성 분석
O 전자광학 시스템: Gemini 컬럼 기반 고해상도 전자빔 형성
O 해상도 특성: 저가속 전압에서도 안정적 이미지 품질 유지
O 검출기 구성: SE, BSE, EDS 등 다양한 검출기 탑재 가능
O 시료 환경: 고진공 및 저진공 모드 지원
O 자동화 기능: 전자빔 정렬, 진공 제어, 이미지 저장 자동화
O 응용 분야: 반도체, 재료과학, 나노소자, 생명과학 연구
O 소프트웨어: SmartSEM 또는 Gemini UI를 통한 통합 제어
O 특징 요약: 고해상도, 고안정성, 다검출기 확장성, 사용자 친화적 인터페이스

장비 구성 및 성능

O 전자광학 시스템: 고해상도 Gemini 컬럼 기반으로, 최대 프로브 전류 20 nA 조건에서 30 kV에서 1.0 nm, 15 kV에서 0.9 nm, 1 kV에서 1.3 nm의 분해능을 달성
O 가속 전압 범위: 20 V ~ 30 kV로 연속 가변 조정 가능
O 전자총: 쇼트키(Shottky) 전계방출형 전자총(FEG) 사용, 자동 방출 제어 기능 탑재로 안정된 전자빔 유지
O 대물렌즈: **수냉식 Gemini 전자기/정전기 복합 렌즈 시스템(80° 원추형 최종 렌즈)**으로, 열 안정성과 재현성을 확보
O 프로브 전류 조정: 3 pA ~ 100 nA 범위에서 7단 조리개 및 OptiProbe 모듈로 세밀한 전류 제어 가능
O 배율 범위: 10× ~ 1,000,000× 까지 지원, 고배율 정밀 이미지 획득 가능
O 검출기 구성: SE, BSE, EDS 등 다중 검출기 조합 가능. InLens SE Detector는 0.02 ~ 20 kV 범위에서 표면 토포그래피 신호 감지에 최적화
O 시료 스테이지: 5축 전동식 스테이지(X, Y = 125 mm, Z = 50 mm, Tilt = −10° ~ 90°, Rotation = 360°), 최대 시료 중량 5 kg까지 지원
O 진공 시스템: 예비 진공펌프 + 터보펌프 + 이온 게터펌프(IGP) 3단 구성으로 초고진공(10⁻⁸ mbar 이하) 유지
O 이미지 해상도 및 스캔: 최대 32 k × 24 k 픽셀 지원, 16비트 다이내믹 레인지 이미지 획득, 최대 스캔 속도 50 ns/픽셀
O 소프트웨어 제어: Windows 10 기반 SmartSEM 사용자 인터페이스로 조작, 자동 초점·스티그마 조정·진공 제어·검출기 선택 기능 포함
O 가변 압력(VP) 모드: 최대 30 Pa까지 제어 가능하며, NanoVP lite 옵션으로 VPSE / C2D / VP BSD 검출기 조합 운용

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