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장비정보

제작사
펨토사이언스(Femto Science)
모델 명
VITA-8DR series

내용연수
8년
구분
주장비

용도
교육
표준 분류
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비

장비활용범위
공동활용서비스
취득일
2024-08-26

취득금액
52,995,000원
인증정보
없음
기능
특수 설계 된 3단계 가스 샤워기 헤드, 최대 8인치 원형기판 로딩이 가능한 프로세스 챔버가 장착 되어 있다.
최대 가스 공급 라인 4채널을 사용하며 APC(자동압력 컨드롤)모듈을 사용한다.
장비 상세설명
(1) 프로세스 챔버
특수 설계 된 3단계 가스 샤워기 헤드, 9.2인치 전극, 알루미늄 순수 통 가공으로 누설을 최소화하며 균일한 가스 흐름을 설계한다.
(2) 플라즈마 전원 공급기
주파수 13.56MHz, 최대 300W 파워, 자동 임피던스 매칭
(3) 가스공급 시스템
최대 가스 공급라인은 4채널이며, 전용 Mass Flow Controller을 통해 가스 유량을 제어한다.
(4) 진공시스템
DN40 공악식 소프트 스타트펌핑 밸브가 장착되어 있고, 진공게이지는 Atm~5x10 –4 torr 측정가능하다.
(5) 제어기
신호 컨트롤러 보드상의 DSP 운영방식으로 처리한다.

이용안내

사용형태

설치형태
고정형
사용료 형태
기타

장비 사용료
[EA] 1,000,000,000원

장비설명

다양한 생체 신호를 측정하는 웨어러블 센서 기기를 개발하기 위해서는 기본적으로 작고 가벼운 소형 센서가 필요하며, 원하는 재료를 적절한 기판에 미세하게 설계하고 제작할 수 있는 기자재를 도입함.

장비 구성 및 성능

(1) 반응기 (Process Chamber)
a. Top Lid(상부 덮개)
- 단일 알루미늄 블록에서 가공
- 소재 : 5083 Al
- 특수 설계된 3단 가스 샤워 헤드

b. 하부 챔버 및 전극
- 단일 알루미늄 블록에서 가공
- 초음파 세척 외에 추가 처리 없음
- 전극 사이즈 : 9.2 inch (최대 8“ 웨이퍼 로딩 가능), Hard Anodized 처리
- 뷰 포트 : Dia. 45mm, 유리 소재

(2) 제네레이터 및 임피던스 매쳐 (Generators & Impedance Matcher)
a. RF Generator
- 주파수 : 13.56MHz
- 최대 출력 전력 : 300W
- Harmonics : <50dBc (50ohm load)
- RF 출력 : N-TYPE (female)
- Interlock : Top cover, RF out, Over temperature
b. Automatic Impedance Matching Network
- 주파수 : 13.56MHz
- 부하 전류 : Max. 10Arms
- 부하 전압 : Max. 1.5Kv peak
- RF 입력 : 50ohm coaxial, type N-connector(female)
- RF 출력 : HN-TYPE (female) or Direct connect to ICP coil
- Matching Circuit : Circuit type standard L-type

(3) 공정가스 공급 장치 (Gas Supply Package)
a. 프로세스 가스 라인
- 가스 채널 : 3개 (사용자가 가스 종류 지정 가능, 기본 O2 제공)
- 추가 가스 라인 : 향후 업그레이드를 위한 예비 가스 라인 0개
- 가스 흐름 제어 : MFC(질량 유량 제어기)로 제어
- 재질 : 1/4“ Swagelock Fitting이 포함된 스테인리스 스틸 가스 라인
b. 퍼지 라인
- 퍼지 라인: 1

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