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장비정보

제작사
마이다스
모델 명
MLW100

내용연수
8년
구분
주장비

용도
생산
표준 분류
기계가공/시험장비 > 성형/가공장비 > 레이저가공기

장비활용범위
공동활용서비스
취득일
2025-07-23

취득금액
147,721,800원
인증정보
없음
기능
Maskless System은 Photo-lithography 공정에서 포토마스크 없이 레이저를 이용하여 사용자가 설계한 패턴을 기판에 구현하는 장비임
장비 상세설명
최대 4인치 까지 공정 가능한 Maskless lithography 장비로서 사용자가 자유 자재로 미세구조를 만들 수 있도록 설계됨. 405 nm 의 광 모듈을 이용하여 최소 600 nm의 작은 구조물을 만들 수 있고, 최대 4095 levels의 grayscale 모드를 지원 하며 3D 광학 구조, 표면 구조 및 마스크 프로젝트를 허용함.

이용안내

사용형태
기관의뢰

설치형태
고정형
사용료 형태
시간별

장비 사용료
[Hr] 45,500원

장비설명

최대 4인치 까지 공정 가능한 Maskless lithography 장비로서 사용자가 자유 자재로 미세구조를 만들 수 있도록 설계됨. 405 nm 의 광 모듈을 이용하여 최소 600 nm의 작은 구조물을 만들 수 있고, 최대 4095 levels의 grayscale 모드를 지원 하며 3D 광학 구조, 표면 구조 및 마스크 프로젝트를 허용함.

장비 구성 및 성능

A. Optics
- 405nm, Laser diode
- Lifetime: 10,000h
- Write modes: 0.6um (Option: 1.2um, 2.3um)
- Intensity: Max. 3mW, software controllable
- Autofocus
B. Top-side Alignment
- Pixel resolution: 1um
- Alignment accuracy: 0.5um

C. Mechanical properties
- Scan speed: Max. 200mm/S
- Substrate thickness: up to 10mm
- Substrate size: Min. 5×5mm, Max. 125×125mm
- Exposable area: Max. 110×110mm
D. Resolution
- High: 0.6um(standard)

E. Options
- Additional write mode: 1.2um, 2.3um

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