(주) 넥서스비

없음

수 나노 단위의 두께의 박막을 균일도있게 증착이 가능함

장비 외부 가스전달 시스템이 구비 되어있음

소프트웨어에 의한 전자동 제어가 가능

플라즈마 기반 시스템을 활용하여 다양한 화합물 증착이 가능

다양한 소스프리커서로 구성되어 목적에 맞는 공정이 가능

장비 운영유지를 위한 고비용 투자가 필요하지 않으며, 최소화된 크기로 구비되어 있음

주기적인 하드웨어 점검 및 교체가 가능

증착 장비 내 다양한 모듈에 따른 증착 평가 및 물성 비교가 가능

원자층 증착 장비로서 8 인치 및 그 이하 크기의 웨이퍼를 수용하며 8 인치 웨이퍼에서 박막의 두께 균일도가 보장되어 있음

공정챔버 외부에서 액체전구체의 기화 및 가스전달 시스템이 구비되어 있음

공정시 내부로 진공을 단절하지 않고 자동으로 웨이퍼를 이송할 수 있는 로드락이 구비되어 있음

장비의 작동은 소프트웨어에 의한 전자동 제어가 되어야 하며 고정의 원인이 될 수 있는 모든 오동작에 대비하여 인터락이 제공됨

다양한 화합물을 원자 단위로 증착이 가능하며, 두께 제어가 가능한 플라즈마 기반 시스템임

공정기술을 최대한 단순화하여, 박막 증착을 원하는 연구실에서 쉽고 간단하게 증착 가능함

소스 프리커서를 3개(Bubbler Type), 리엑턴트를 3개(1 Self Evaporation Type + 2 External Gas Reactant)로 구성하여, 금속산화물 및 금속질화물, 금속 등 다양한 원자층 증착 공정이 가능함

장비 운영 유지를 위한 고비용 투자가 필요하지 않으며, 다양한 연구 환경 및 연구 장비 시스템 등에 쉽게 연동 가능하며 최소화된 크기로 설치 공간 최소화하였음

쉬운 메인터넌스가 가능하여 주기적인 하드웨어 점검 및 교체가 가능

플라즈마 모듈 구성 및 서멀 등 다양 리엑턴트별 증착 평가 및 물성 비교가 가능