RAITH GMBH
Maskless Lithography System
9년
주장비
계측
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
공동활용서비스
2025-10-30
341,894,500원
없음
마스크리스 리소그래피(Picomaster 200)은 반도체 제작을 위해 반도체 표면에 특정 미세 패턴을 그릴 수 있게 해주는 장비이다.
이 장비의 특징으로는 기존에 사용하던 전통적인 장비들은 빛이 투과되는 부분을 구분 지어주는 패턴 마스크들을 사용 하였고, 패턴 마스크 제작 과정에서 아주 작은 크기의 패턴은 만들기 힘들다는 어려움이 있었다. 하지만 Picomaster 200 장비는 패턴 마스크 없이 컴퓨터 프로그램을 이용하여 디지털 마스크를 그린 뒤, 빛이 투사 되는 부분을 장비 자체적으로 조절하면서 반도체 표면에 필요한 미세 패턴을 그릴 수 있다.
패턴의 위치는 장비의 프로그램과 컨트롤러를 이용하여 x축, y축, theta 축을 이동하며 정렬한다.
직접사용
고정형
시간별
[Hr] 105,050원
해당 장비는 고가의 포토마스크 없이도 포토리소가 가능하게 하는 신개념 장비로, 300m스케일까지 패터닝이 가능한 장비 이며, 마이크로 렌즈 모양 등 3차원 구조형성에도 용이한 장비 이다.
- 기판 크기 : 최소 5 ✕ 5mm,최대 8“ SI Wafer
- 기판 두께 : 최대 12mm
- 레이저 파장 : 405nm, GaN laser diode
- 레이저 강도 : 최대 3mW
- 공정 해상도 : 최소 300nm
- 얼라이먼트 정밀도 : <0.5μm
- 인코더 해당도 : 2nm