마이다스시스템(주)
MDA-400S
10년
주장비
시험
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
공동활용서비스
2024-12-26
48,950,000원
없음
마스크 얼라이너는 포토마스크를 통해 자외선 빛에 노출시켜 기판에 패턴을 전사하는데 사용되는 포토리소그래피 장비이다.
마스크 얼라이너는 원하는 패턴이 포함된 포토마스크를 포토레지스트가 코팅된 기판과 정렬하여 광학적 매커니즘을 통해 정밀한 패턴을 보장한다. 자외선 빛은 포토마스크의 투명한 영역을 통과하여 포토레지스트와 상호작용하여 포토레지스트의 용해도를 변경한다.
직접사용
고정형
시간별
[Hr] 1원
① 반도체 및 디스플레이 제조에 일반적으로 사용되는 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 웨이퍼나 유리판과 같은 기판에 복잡한 패턴을 구현한다.
② 감광성 물질이 기판에 도포되면 자외선 빛은 패턴의 주형 역할을 하는 마스크를 통과함으로써 원하는 최종 패턴은 박막 증착 및 에칭과 같은 공정을 통해 달성한다.
③ 포토리소그래피 공정의 핵심 구성 요소인 마스크 얼라이너는 매우 균일한 자외선 광원을 사용하여 미세한 회로 패턴을 생성한다.
④ 프로세스의 다층적 특성으로 인해 시스템은 고정밀 정렬 및 레벨링과 같은 고급 기술을 통합하여 최적의 정확성과 성능을 보장한다.
“① 광원부
- 램프 타입 : 수은 머큐리 숏 아크 램프 (350W)
- 파장 : 350nm - 450nm
- 365nm 빛 강도 : 25 mW/cm2
- 최대 자외선 노광 영역 : 6.25 in. x 6.25in.
- 자외선 노광 균일도 : <±3%
② 마이크로 스코프
- 듀얼 CCD 줌 마이크로스코프
- 샘플 로딩부 축 이동 : 양쪽 축 X, Y, Z
- 마스크 및 광원부 여유공간 : 60 ~ 100mm
- 축의 움직임 범위 : Y 축 ± 20 mm
- 배율 : 85x ~ 540x
- 마스크 및 마이크로스코프 거리 : 86 mm / 32 mm
③ 스테이지 및 제어부
- 노광 시간 : 0.1 초 - 999.9 시간
- 스테이지 이동 : X, Y, Z and 회전축
X, Y : ±5 mm, Z 운동범위 : 10 mm, 회전축 : ±4°
- 컨텍 및 노광 모드 : 진공, 하드, 소프트 컨텍 모드
- 정렬 오차 : <±1.0 마이크로
- 진공 / 압축 공기 제어 : 시편부, 마스크, 척 잠금 & 마스크 및 웨이퍼 접촉
④ 해상도
- 진공 접촉 : 1um
- 하드 (압박) 접촉 : 2um
- 소프트 접촉 : 3um
- 20um 근접모드 : 5um
⑤ 제진대
- 격리 규격 : 1000 x 1000 x 20 t
- 높이 : 750 mm (바닥 - 상부까지)
- 수평화 : 3- 포인트 자동 수평 시스템 적용
- 자연 주파수 : 수직 : 1.2 ~ 1.5 Hz / 수평 : 1.5 ~ 1.8Hz
- 사각 암 레스트 부착
- 언더 쉘프 부착
- 공압 : >5 kgf/㎠
⑥ 유틸리티 훅 업
- 전기 용량 : 220VAC / 15A / 단상 및 그라운드
- 질소 : >55 psi (4㎏/㎠ ), 6 mm 튜브(PU)
- 공압 : >85.5 psi (Over 6 ㎏/㎠) , 6mm 튜브 (PU)
- 진공 : < -650 mmHg“
- 장비소프트웨어명 : MDA-400S