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장비정보

제작사
Keithley Instruments
모델 명
4225-Pmu 4225-RPM

내용연수
10년
구분
주장비

용도
분석
표준 분류
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비

장비활용범위
공동활용서비스
취득일
2024-11-14

취득금액
54,300,000원
인증정보
없음
기능
4225-PMU와 4225-RPM은 전압 펄스에 따른 전류 및 저항 특성을 정밀하게 측정하며, 다양한 전자 소자의 동적 특성 분석을 지원함. 초고속 I-V 측정을 통해 비휘발성 메모리(NVM), MEMS, 화합물 반도체 소자의 동작 전류, 누설 전류, 전도도, 저항 등의 전기적 특성을 평가할 수 있음. 이 장비는 Keithley 4200-SCS와 호환되어 복잡한 파형 생성, 5ns 해상도의 고속 데이터 측정, 자동 스위칭 기능을 제공하며, 공정 개발 및 산업 응용 가능성 평가에 활용됨.
장비 상세설명
4225-PMU는 ±40V 전압과 ±800mA 전류 공급이 가능하며, 초당 200MS/s 샘플링 속도와 최소 60ns의 펄스 타이밍으로 고속 데이터를 정밀하게 측정함. Segment ARB® 기능을 통해 최대 2048개의 사용자 정의 파형을 생성할 수 있으며, 트랜지언트 특성을 분석하는 데 최적화되어 있음. 4225-RPM은 100nA~10mA의 전류 민감도로 낮은 전류 특성을 정밀히 측정하며, DC I-V, C-V, Pulsed I-V 간 자동 전환을 지원함. 소형 설계로 신호 왜곡을 최소화하며, 전자 소자와 소재의 연구 및 개발에서 높은 정밀도와 신뢰성을 제공함.

이용안내

사용형태
직접사용

설치형태
고정형
사용료 형태
시간별

장비 사용료
[Hr] 100,000원

장비설명

ㅇ 4225-PMU와 4225-RPM은 반도체 소자의 전압 펄스에 따른 전류, 저항, 누설 전류 등의 특성을 정밀하게 측정하는 장비임.
ㅇ 특히, 비휘발성 메모리(FeRAM, PRAM, ReRAM) 소자의 PUND 테스트, 전환 특성, 수명 평가를 지원하며, 초고속 I-V 측정을 통해 공정 개발 및 소자 성능 최적화를 도움.
ㅇ Keithley 4200-SCS와 호환되어 복잡한 파형 생성과 고속 샘플링(5ns 해상도)을 제공하며, 저전류 민감도와 자동 스위칭 기능으로 다양한 실험 요구를 충족하여 연구와 개발에 폭넓게 활용 가능함.

장비 구성 및 성능

A. 장비 구성
1. 4225-PMU 1ea
2. 4225-RPM 2ea

B. 장비 성능
1. 전압 및 전류 소싱
ㅇ ±40V와 ±10V의 두 가지 전압 범위를 제공하며, ±800mA의 넓은 전류 범위 지원.
ㅇ 네 가지 전류 범위(100µA~800mA)로 정밀한 전류 제어 가능.

2. 초고속 데이터 측정
ㅇ 초당 200MS/s 샘플링 속도와 5ns의 해상도를 지원하여 고속 데이터 수집.
ㅇ 최소 60ns의 펄스 타이밍을 제공하여 트랜지언트 특성 분석에 최적화.

3. 정밀도 및 민감도
ㅇ 피코암페어 수준의 낮은 전류 민감도를 제공하여 세밀한 데이터 측정 가능.
ㅇ RMS 노이즈 최소화로 안정적인 데이터 확보.

4. 다중 모드 지원
ㅇ Pulsed I-V: DC 유사 결과 제공 및 자기 발열 감소.
ㅇ Transient I-V: 시간 기반 전류 및 전압 변화 분석.
ㅇ Pulsed Sourcing: 멀티 레벨 파형 생성 및 스트레스 테스트 지원.

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