리소텍

없음

ㅇ산용 웨이퍼 식각기#1
- 시료: 웨이퍼 8인치 25매(200*200mm)
- 본체: 압착판 PVC 8t 외장작업
- 에어건 1세트
- N2건 1세트
- LED 램프 30W
- 배기 라인 & 댐퍼 적용
- 리크 센서 적용
- 약품 공정용 베스:
재질: 테프론 15t, 3세트
약품 상온 공정 적용
- QDR 세정용 베스: LDPP, 3세트
N2 버블구성
DI 스프레이 노즐 구성
DI 오버 플로우 공급 구성
퀵 드레인 구성
세정조 사이클 동작 구성
자동 테프론 밸브 구동
LDPP 확산판 장착
- 세정용 싱크 구성
구스넥 구성
초순수 공급 구성
PVC 수동 밸브구성

ㅇ세정용 웨이퍼 식각기#2
- 웨이퍼/ 기판 크기 : 200*200mm
- 웨이퍼 8인치 25매
- 본체: IV-PVC 외장 작업
- 에어건 1세트
- N2건 1세트
- LED 램프 30W
- 배기 라인 & 댐퍼 적용
- 리크 센서 적용
- 세정용 싱크 구성
구스넥 구성
초순수 공급 구성
PVC 수동 밸브구성

QD-OLED 제조 공정의 중요한 측면 중 하나는 웻 스테이션(Wet station)을 활용하는 것이다. 웻 스테이션의 장비 구매는 두가지 필요성이 있는데, 첫째는, 클린룸의 환경 유지와 안전 관리 측면이고, 둘째는, QD-OLED 디스플레이 공정의 일관되고 안정적인 실험 결과를 보장하기 위함이다. 때문에, 위 두 목적에 따라 웻 스테이션은 두가지 종류가 있고 이 두 웻 스테이션이 기본적으로 클린룸에 투자될 필요성을 갖춘 필수 인프라이다. 웻 스테이션 1은 습식 세정의 독립된 공간을 의미하고 이에 관련한 세정액, DI water supply, 폐수 탱크를 갖추고 있다. 이러한 세정 목적의 웻 스테이션으로 습식 공정을 독립적으로 수행함으로써 클린룸의 환경 유지, 반도체 세정의 정밀한 제어, 그리고 기판의 완전한 세정을 통한 QD-OLED의 안정적 수율 보장과 연관되어 있다. 다음으로 웻 스테이션 2는 공정에 필요한 화학적 처리를 수행할 독립적 공간과 화학 처리에 따른 독성 흄 (fume)의 처리 (배기)를 담당함으로써 클린룸 작업자의 통합 안전 관리, 화학 폐기물 관리 시스템 역할, 민감한 화학 물질 취급을 위한 항온·항습 공간 확보, 그리고 QD-OLED 공정에 관련한 화학적 처리의 맞춤형 환경 조성에 따른 불량 최소화 및 수율 유지 (외부 변수 제거)의 역할을 함